[实用新型]一种氮化硅制备装置及制备系统有效
| 申请号： | 201820826775.8 | 申请日： | 2018-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN208292879U | 公开（公告）日： | 2018-12-28 |
| 发明（设计）人： | 颜井意;杜建周;黄燕梅;杨子润 | 申请（专利权）人： | 江苏东浦精细陶瓷科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/584 | 分类号： | C04B35/584;C04B35/626 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 齐云 |
| 地址： | 222000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制备装置 氮化硅 制备系统 制备 本实用新型 加热装置 氮化硅粉末 加热反应釜 机械设计 温度气氛 反应釜 反应箱 高纯度 中间腔 保证 | ||
1.一种氮化硅制备装置，其特征在于，包括：
反应箱，所述反应箱由箱侧壁、底板和箱顶板构成，所述箱侧壁、所述底板和所述箱顶板围成中间腔；
反应釜，所述反应釜设置于所述中间腔，所述反应釜与所述底板固定连接；
加热装置，所述加热装置加热所述反应釜中的反应原料；
气体管，所述气体管设置于所述底板，所述气体管与所述中间腔连通。
2.根据权利要求1所述的氮化硅制备装置，其特征在于，所述箱侧壁、所述底板和所述箱顶板均包括镜面层、隔热层和外壁层，所述镜面层为靠近所述中间腔的内层。
3.根据权利要求1所述的氮化硅制备装置，其特征在于，所述反应釜为坩埚反应器。
4.根据权利要求3所述的氮化硅制备装置，其特征在于，所述底板设置有底砧，所述坩埚反应器通过所述底砧与所述底板连接。
5.根据权利要求4所述的氮化硅制备装置，其特征在于，所述底砧包括隔热板和垫板，所述底砧与所述隔热板连接，所述垫板设置有连接耳，所述垫板通过所述连接耳与所述底板固定连接。
6.根据权利要求5所述的氮化硅制备装置，其特征在于，所述加热装置包括激光器，所述激光器设置于所述箱顶板。
7.根据权利要求6所述的氮化硅制备装置，其特征在于，所述加热装置还包括电加热器，所述电加热器与所述坩埚反应器连接。
8.根据权利要求7所述的氮化硅制备装置，其特征在于，所述坩埚反应器的外壁设置有环形突出部，所述电加热器设置于相邻两个所述环形突出部之间。
9.根据权利要求1所述的氮化硅制备装置，其特征在于，所述气体管设置有流量调节阀。
10.一种氮化硅制备系统，其特征在于，所述氮化硅制备系统包括如权利要求1-9任一项所述的氮化硅制备装置。
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