[实用新型]一种用于二极管制备的酸洗机有效
| 申请号： | 201820655478.1 | 申请日： | 2018-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN208077946U | 公开（公告）日： | 2018-11-09 |
| 发明（设计）人： | 黄发良;黄祥旺;黄志和 | 申请（专利权）人： | 黄山市弘泰电子有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/329 |
| 代理公司： | 深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙) 44240 | 代理人： | 李振泉;杨大庆 |
| 地址： | 245614*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 酸洗 二极管 酸洗槽 循环冷却水箱 酸洗机 通管 制备 本实用新型 冷却水盘管 隔离 料盘 驱动装置 上下运动 制备过程 便捷性 内壁 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于二极管制备的酸洗机，其特征在于：包括机体，机体的底部设置有循环冷却水箱，循环冷却水箱的上方设置有酸洗台，酸洗台上设置有一组酸洗槽，酸洗槽内设置有和循环冷却水箱相接的冷却水盘管，酸洗槽内设置有可提出的酸洗隔离通管，冷却水盘管设置在酸洗隔离通管和酸洗槽内壁之间；酸洗隔离通管内设置有酸洗料盘，酸洗料盘上设置有用于带动其上下运动的驱动装置。
2.根据权利要求1所述的用于二极管制备的酸洗机，其特征在于：机体位于酸洗台的上方设置有挂钩，挂钩上设置有挂绳；酸洗料盘上设置有提手，挂绳的另一端系在提手上；机体上还设置有和用于驱动挂钩上下运动的气动装置。
3.根据权利要求1所述的用于二极管制备的酸洗机，其特征在于：循环冷却水箱连接设置有水冷设备。
4.根据权利要求1至3任意一项所述的用于二极管制备的酸洗机，其特征在于：机体还设置有抽风装置，抽风装置对应各酸洗槽均设置有抽风管。
5.根据权利要求4所述的用于二极管制备的酸洗机，其特征在于：酸洗槽呈圆柱状，冷却水盘管紧贴酸洗槽内壁设置。
6.根据权利要求1所述的用于二极管制备的酸洗机，其特征在于：酸洗隔离通管的外侧壁设置有若干个通孔。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
