[实用新型]基板支撑体以及基板处理装置

权利要求书

1.一种基板支撑体，用于对投入到基板处理装置的腔室并被处理的基板进行支撑，其特征在于，

所述基板支撑体包括下部基板支撑体以及层叠在下部基板支撑体上部的上部基板支撑体，

上部基板支撑体和下部基板支撑体上分别搭载并支撑有基板。

2.根据权利要求1所述的基板支撑体，其特征在于，

各上部基板支撑体以及下部基板支撑体包括：

彼此对置的一对主杆；以及

多个连接杆，连接所述一对主杆。

3.根据权利要求2所述的基板支撑体，其特征在于，

上部基板支撑体的主杆两端的下部形成有与下部基板支撑体的上部结合的结合部。

4.根据权利要求2所述的基板支撑体，其特征在于，

下部基板支撑体的主杆两端的上部形成有与上部基板支撑体的下部结合的结合部。

5.根据权利要求2所述的基板支撑体，其特征在于，

主杆上设置有对基板进行搭载并支撑的多个第一支撑销，连接杆上设置有对基板进行支撑的多个第二支撑销。

6.根据权利要求2所述的基板支撑体，其特征在于

下部基板支撑体的主杆的一端部侧设置有弧形支撑片，所述弧形支撑片形成为半圆形状，以套入并支撑于对象物体上，

位于下部基板支撑体的主杆的另一端部侧的连接杆上设置有直线形支撑片，所述直线形支撑片搭载并支撑于对象物体上。

7.一种基板处理装置，用于对投入到腔室中的多个基板进行处理，其特征在于，包括：

本体，提供作为基板处理空间的腔室；

多个主加热单元，配置成在腔室内沿着垂直方向具有规定间隔；

基板支撑体，配置在上部的主加热单元和下部的主加热单元之间，

基板支撑体包括下部基板支撑体以及层叠在下部基板支撑体上部的上部基板支撑体，

上部基板支撑体和下部基板支撑体上分别搭载并支撑有基板。

8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，

腔室内配置有多个基板支撑体，各基板支撑体被位于主加热单元最外侧的一对单位主加热器支撑。

9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，

单位主加热器呈棒状，从腔室的一侧连通至腔室的另一侧。

10.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于

各上部基板支撑体以及下部基板支撑体包括：

彼此对置的一对主杆；以及

多个连接杆，连接所述一对主杆。

11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，

上部基板支撑体的主杆两端的下部形成有与下部基板支撑体的上部结合的结合部。

12.根据权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，

下部基板支撑体的主杆两端的上部形成有与上部基板支撑体的下部结合的结合部。

13.根据权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，

主杆上设置有对基板进行搭载并支撑的多个第一支撑销，连接杆上设置有对基板进行支撑的多个第二支撑销。

14.根据权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，

下部基板支撑体的主杆的一端部侧设置有弧形支撑片，所述弧形支撑片形成为半圆形状，以套入并支撑于对象物体上，

位于下部基板支撑体的主杆的另一端部侧的连接杆上设置有直线形支撑片，所述直线形支撑片搭载并支撑于对象物体上。