[实用新型]一种用于镀膜机的石墨坩埚

权利要求书

1.一种用于镀膜机的石墨坩埚，其特征在于：其包括上盖（1）和下盖（2）；上盖（1）上含有蒸发台（12）和咬合区凸起圆环（13），蒸发台（12）呈圆柱形，其中圆柱形的上表面上有一蒸发孔（121）从上至下贯穿整个蒸发台（12），且蒸发台（12）的上表面偏离蒸发孔（121）的位置有一斜坡面（122），该斜坡面（122）为电子束打火处，蒸发台（12）的圆柱形的下部平面（123）与咬合区凸起圆环（13）的上表面一体成型，咬合区凸起圆环（13）的外径＜蒸发台（12）的圆柱形的外径；下盖（2）含有边缘凸台（21）、咬合区凹陷基座（22）和中心置药平台（23），中心置药平台（23）为圆形，在中心置药平台（23）的外部环绕的一圈为咬合区凹陷基座（22），咬合区凹陷基座（22）的外部环绕的一圈为边缘凸台（21），其中中心置药平台（23）、咬合区凹陷基座（22）、和边缘凸台（21）的底部在同一平面，且边缘凸台（21）的高度高于咬合区凹陷基座（22）的高度，咬合区凹陷基座（22）的高度高于中心置药平台（23）的高度；上盖（1）的咬合区凸起圆环（13）与下盖（2）的咬合区凹陷基座（22）匹配吻合，上盖（1）的边缘凹台（11）与下盖（2）的边缘凸台（21）匹配吻合。

2.如权利要求1所述的用于镀膜机的石墨坩埚，其特征在于：蒸发孔（121）的形状为圆形、椭圆形、正方形或者菱形。

3.如权利要求1所述的用于镀膜机的石墨坩埚，其特征在于：蒸发孔（121）为圆形，且圆形的直径为1mm～2mm。

4.如权利要求1所述的用于镀膜机的石墨坩埚，其特征在于：蒸发台（12）的圆柱形的直径为10mm～18mm，蒸发台（12）的高度为2mm～5mm。

5.如权利要求1所述的用于镀膜机的石墨坩埚，其特征在于：斜坡面（122）与水平面的夹角为10°～30°。

6.如权利要求1所述的用于镀膜机的石墨坩埚，其特征在于：蒸发孔（121）位于斜坡面（122）与蒸发台（12）上表面平面相交的位置。

7.如权利要求1所述的用于镀膜机的石墨坩埚，其特征在于：咬合区凸起圆环（13）的圆环的高度为1mm～3mm，咬合区凸起圆环（13）的圆环的外径比内径大1mm。

8.如权利要求1所述的用于镀膜机的石墨坩埚，其特征在于：咬合区凹陷基座（22）为圆环形，咬合区凹陷基座（22）的圆环的外径比内径大1mm，其能够与咬合区凸起圆环（13）匹配。

9.如权利要求1所述的用于镀膜机的石墨坩埚，其特征在于：下盖（2）的边缘凸台（21）的高度为1mm～3mm。