[实用新型]一种晶圆自动定位系统及包括它的装载机有效
申请号: | 201820056531.6 | 申请日: | 2018-01-12 |
公开(公告)号: | CN207690775U | 公开(公告)日: | 2018-08-03 |
发明(设计)人: | 黄雷 | 申请(专利权)人: | 昆山成功环保科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68 |
代理公司: | 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 | 代理人: | 黄珩 |
地址: | 215300 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 控制器 晶圆 激光测距系统 自动定位系统 调整平台 控制信号 驱动装置 摄像系统 种晶 装载机 本实用新型 真空发生器 机械手 定位标记 二次调整 画面传送 晶圆位置 上表面 预设 浮动 捕捉 | ||
本实用新型涉及了一种晶圆自动定位系统,其包括调整平台、真空发生器、机械手、驱动装置、激光测距系统、摄像系统、第一控制器等几部分。晶圆初步放置到位后,通过设置在其正上方的摄像系统实时地对其定位标记进行捕捉,将画面传送至第一控制器,产生其浮动坐标(X、Y),又通过激光测距系统得出晶圆上表面的Z相坐标值,而后与第一控制器中预设的坐标值进行对比,发出控制信号。驱动装置根据上述控制信号驱使调整平台进行X、Y、Z轴方向移动,进行晶圆位置二次调整,从而提高了晶圆的定位精度。
技术领域
本实用新型涉及晶圆制造领域,特别涉及一种晶圆自动定位系统及包括它的装载机。
背景技术
在晶圆封装过程中,一般都是借助带有吸盘的机械手进行晶圆放置,在长时间使用过程中,机械手手会发生运动偏差或机械振动等不可避免的情况,从而降低了晶圆的定位精度。然而,随着技术的进步,对晶圆的精度的要求越来越高,从而对放置装载定位精度也提出了更高的要求,如何保证晶圆在装载过程中的定位精度,减小误差是该领域技术人员亟待解决的问题。
实用新型内容
本实用新型要解决的问题在于提供一种结构简单、定位精度高、过程快捷的晶圆自动定位系统。
为了解决上述技术问题,本实用新型涉及了一种晶圆自动定位系统,其包括调整平台,用于放置晶圆;
该调整平台上设置有真空吸附槽,且其与真空发生器相连;
机械手,用于拾取晶圆并将其放入调整平台上;
晶圆上设置有定位标记;
驱动装置,用于驱使调整平台进行X、Y、Z轴方向移动;
激光测距系统,用于实时对晶圆的Z轴方向尺寸进行检测;
摄像系统,用于摄取晶圆表面并形成实时画面,并捕捉晶圆上的定位标记;
第一控制器,其与激光测距系统及摄像系统相连;该第一控制器根据摄像系统捕捉到的定位标记产生浮动坐标植,并根据该浮动坐标植与预设坐标植进行对比,从而发出控制信号至驱动装置。
晶圆初步放置到位后,通过设置在其正上方的摄像系统实时地对其定位标记进行捕捉,将画面传送至第一控制器,产生其浮动坐标(X、 Y),又通过激光测距系统得出晶圆上表面的Z相坐标值,而后与第一控制器中预设的坐标值进行对比,发出控制信号。驱动装置根据上述控制信号驱使调整平台进行X、Y、Z轴方向移动,进行晶圆位置二次调整,从而提高了晶圆的定位精度。
作为本实用新型的进一步改进,真空吸附槽为同心环形槽,且其棱边上设置有倒角。
当真空发生器起作用时,晶圆在同心环形状的真空吸槽作用下,其吸附变形较小。另外在真空吸槽的棱边上还设置倒角,这样一来,降低了由于局部形变导致的应力对晶圆的影响。
作为本实用新型的进一步改进,该晶圆自动定位系统还包括第二控制器,且其与真空发生器相连。在调整平台上还设置有感应装置,用来识别晶圆是否放置到位,并发出相应信号至第二控制器。
当设置在调整平台上的感应装置检测到晶圆放置到位后,第二控制器即时发出控制信号至真空发生器,借助真空吸附槽对晶圆进行吸附、定位,从而防止了调整平台在移动过程中晶圆相对滑动。
作为本实用新型的进一步改进,感应装置包括红外线发射器和红外线接收器。
当晶圆未放置到调整平台时,红外线接收器能对红外线进行接收;而当晶圆放置到位后,红外线向红外线接收器的传播路径被阻挡。该感应装置响应速度快,结构简单。
作为本实用新型的进一步改进,摄像系统包括多个设置于于晶圆上方的电荷耦合元件图像传感器。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造