[发明专利]电致变色玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种电致变色玻璃，其特征在于，包括：

玻璃基层；

调色组合层，镀于所述玻璃基层的一侧，所述调色组合层中从靠近所述玻璃基层的一侧到相对的另一侧依次包括第一膜层、第二膜层和第三膜层，所述第一膜层包括氮化硅层和氮化硼硅层中的至少一种，所述第二膜层包括铜层、银层、铜银合金层、铜铝合金层、铜的氧化物层和铜铝复合氧化物层中的至少一种，所述第三膜层包括氧化硅层和氧化硼硅层中的至少一种；

电致变色层，镀于所述调色组合层的背向所述玻璃基层的一侧，所述电致变色层中从靠近所述调色组合层的一侧到相对的另一侧依次包括第一透明导电层、变色层、锂离子导体层、离子储存层和第二透明导电层。

2.如权利要求1所述的电致变色玻璃，其特征在于，所述调色组合层的总厚度为5.3～300nm，其中所述第一膜层的厚度为3～120nm，所述第二膜层的厚度为0.3～40nm，所述第三膜层的厚度为2～140nm。

3.如权利要求2所述的电致变色玻璃，其特征在于，所述第一膜层的厚度范围为30～60nm，所述第二膜层的厚度范围为2～4.5nm，所述第三膜层的厚度范围为45～75nm，所述第三膜层的厚度与所述第一膜层的比值范围为1.3～1.4。

4.如权利要求2所述的电致变色玻璃，其特征在于，所述第一膜层的厚度范围为25～45nm，所述第二膜层的厚度范围为2～4.2nm，所述第三膜层的厚度范围为60～95nm，所述第三膜层的厚度与所述第一膜层的比值范围为2.12～2.14。

5.如权利要求2所述的电致变色玻璃，其特征在于，所述调色组合层中，所述第一膜层的厚度范围为25～46nm，所述第二膜层的厚度范围为1.5～3.8nm，所述第三膜层的厚度范围为35～60nm，所述第三膜层的厚度与所述第一膜层的比值范围为1.2～1.3。

6.如权利要求1所述的电致变色玻璃，其特征在于，所述调色组合层还包括锆层和氧化锆层，所述锆层镀于所述第二膜层的背向所述第一膜层的一侧；所述氧化锆层镀于所述锆层的背向所述第二膜层的一侧；所述第三膜层镀于所述氧化锆层的背向所述锆层的一侧。

7.如权利要求6所述的电致变色玻璃，其特征在于，所述调色组合层的总厚度为5～300nm，其中所述第一膜层的厚度为1.4～110nm，所述第二膜层的厚度为0.3～35nm，所述锆层的厚度为0.3～20nm，所述氧化锆层的厚度为1～15nm，所述第三膜层的厚度为2～120nm。

8.如权利要求1至7任意一项所述的电致变色玻璃，其特征在于，所述玻璃基层的厚度为2～19mm，所述第一透明导电层的厚度为140～700nm，所述变色层的厚度为30～100nm，所述锂离子导体层的厚度为50～650nm，所述离子储存层的厚度为200～400nm，所述第二透明导电层的厚度为100～500nm。

9.一种电致变色玻璃的制备方法，用于制备如权利要求1至7任意一项所述的电致变色玻璃，其特征在于，所述制备方法包括：

在真空环境下利用靶材对玻璃基层表面进行磁控溅射，依次溅射形成第一膜层、第二膜层、第三膜层、第一透明导电层、变色层、锂离子导体层、离子储存层和第二透明导电层。

10.如权利要求9所述的电致变色玻璃的制备方法，其特征在于，在溅射第三膜层之前还包括以下步骤：在真空环境下利用靶材对第二膜层的表面进行磁控溅射，依次溅射形成锆层和氧化锆层。

11.如权利要求9所述的电致变色玻璃的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：在第一透明导电层形成过程中，对所述玻璃基层进行加热，且加热温度为350℃～400℃；在所述变色层形成过程中，对所述玻璃基层进行加热，且加热温度为300℃～330℃；在所述离子储存层形成过程中，对所述玻璃基层进行加热，且加热温度为350℃～400℃；在所述第二透明导电层形成过程中，对所述玻璃基层进行加热，且加热温度为350℃～400℃。