[发明专利]一种聚酯量子点膜及其制备方法

说明书

本发明公开了一种聚酯量子点膜及其制备方法，其特征是：该聚酯量子点膜是依次为WABCBAW共7层结构的复合薄膜，其中：W层是厚度5～500nm无机溅射阻隔层，A层是厚度为0.1～1μm的阻隔涂料层，B层是厚度为25～50μm的阻隔聚酯薄膜层，C层是厚度为150～200μm的量子点聚酯薄膜层；该聚酯量子点膜的总厚度为200～300μm，水蒸气透过率为1×10^‑5～1×10^‑4g/m²·24h，在85℃温度、85%湿度的条件下处理1000h后的边缘失效为0.02～0.2mm，在60℃温度、90%湿度的条件下处理1000h后的边缘失效为0.01～0.15mm。该聚酯量子点膜特别适用于量子点电视、有机电激光显示领域。

技术领域

本发明属于聚对苯二甲酸乙二醇酯(简称：聚酯或PET)薄膜及其制备，涉及一种聚酯量子点膜及其制备方法。本发明聚酯量子点膜适用于量子点电视(简称QD)、有机电激光显示(简称OLED)领域。

背景技术

近年来，液晶显示屏全面普及，为进一步提高其色域，可采用量子点发光技术来达到目的。由于量子点发光更为纯净，经蓝光激发红、绿量子点后，可使色域覆盖率提高到110％NTSC(美国电视标准委员会制定的色域空间标准)。但由于量子点本身在有水和氧的条件下不稳定，为保证其活性，通常采用包裹(如制成含有量子点夹心层的复合多层薄膜)的形式进行保护。量子点膜通常是量子点胶，聚酯阻隔膜为主要原料，采用复合的方法制成量子点膜。因量子点材料遇水、氧后失去发光效果。现有技术主要采用聚酯阻隔膜隔绝水、氧，另外量子点所使用的胶系也必须隔绝水、氧。通过现有技术方法加工阻隔膜难度较大，复合的薄膜层易造成分层、端部封装困难，工序复杂，成本较高，收率低。

发明内容

本发明的目的旨在克服上述现有技术中的不足，提供一种聚酯量子点膜及其制备方法。本发明采用市面常见的量子点材料作为发光材料，采用聚酯材料作为基体，再结合现有的聚酯薄膜生产设备、技术，从而提供一种性能良好的聚酯量子点膜及其制备方法。

本发明的内容是：一种聚酯量子点膜，其特征是：该聚酯量子点膜是依次为WABCBAW共7层结构的复合薄膜，其中：W层为5～500nm的无机溅射阻隔层，A层是厚度为0.1～1μm的阻隔涂料层，B层是厚度为25～50μm的阻隔聚酯薄膜层，C层是厚度为150～200μm的量子点聚酯薄膜层；

所述无机溅射阻隔层(即W层)是二氧化硅、三氧化二铝、氮化硅(Si₃N₄)中的一种或两种以上的混合物制成的溅射覆盖物层；

所述阻隔涂料层(即A层)是偏二氯乙烯(简称VDC)—丙烯酸甲酯(简称MA)的共聚物(简称PVDC)、水溶性聚酯、聚氨酯、硅烷、磺酸树脂、尼龙树脂、乙烯—乙烯醇共聚物(简称EVOH)、以及聚萘二甲酸乙二醇酯(简称PEN)中的任一种的涂层；

所述阻隔聚酯薄膜层(即B层)是无机纳米填料或有机纳米填料和高阻隔聚酯切片组成的混合物制成的薄膜层，其质量比为无机纳米填料或有机纳米填料：高阻隔聚酯切片＝0.03～0.3：1000；

所述无机纳米填料是二氧化硅、二氧化钛、三氧化二铝、碳酸钙、磷酸钙、硫酸钡、以及滑石粉中的一种或两种以上的混合物；

所述有机纳米填料是聚苯乙烯(简称PS)、聚丙烯酸甲酯(简称PMMA)中的一种或两种的混合物；

所述量子点聚酯薄膜层(即C层)是质量比为量子点材料：聚酯切片＝1：9～49的量子点材料与聚酯切片组成的混合物制成的薄膜层；

所述量子点材料可以是Zn(Mg)O、InP/ZnS、以及CdSe/ZnS中的一种或两种以上的混合物。