[发明专利]一种聚酯量子点膜及其制备方法

权利要求书

1.一种聚酯量子点膜，其特征是：该聚酯量子点膜是依次为WABCBAW共7层结构的复合薄膜，其中：W层是厚度为5～500nm的无机溅射阻隔层，A层是厚度为0.1～1μm的阻隔涂料层，B层是厚度为25～50μm的阻隔聚酯薄膜层，C层是厚度为150～200μm的量子点聚酯薄膜层；

所述无机溅射阻隔层是二氧化硅、三氧化二铝、氮化硅中的一种或两种以上的混合物制成的溅射覆盖物层；

所述阻隔涂料层是偏二氯乙烯—丙烯酸甲酯的共聚物、水溶性聚酯、聚氨酯、硅烷、磺酸树脂、尼龙树脂、乙烯—乙烯醇共聚物、以及聚萘二甲酸乙二醇酯中的任一种的涂层；

所述阻隔聚酯薄膜层是无机纳米填料或有机纳米填料和高阻隔聚酯切片组成的混合物制成的薄膜层，其质量比为无机纳米填料或有机纳米填料：高阻隔聚酯切片=0.03～0.3：1000；

所述无机纳米填料是二氧化硅、二氧化钛、三氧化二铝、碳酸钙、磷酸钙、硫酸钡、以及滑石粉中的一种或两种以上的混合物；

所述有机纳米填料是聚苯乙烯、聚丙烯酸甲酯中的一种或两种的混合物；

所述量子点聚酯薄膜层是质量比为量子点材料：聚酯切片=1：9～49的量子点材料与聚酯切片组成的混合物制成的薄膜层；

所述量子点材料是Zn(Mg)O、InP/ZnS、以及CdSe/ZnS中的一种或两种以上的混合物。

2.按权利要求1所述的聚酯量子点膜，其特征是：所述聚酯量子点膜的总厚度为200～300μm，水蒸气透过率为1×10^-5～1×10^-4g/m²·24h，在85℃温度、85%湿度的条件下处理1000h后的边缘失效为0.02～0.2mm，在60℃温度、90%湿度的条件下处理1000h后的边缘失效为0.01～0.15mm。

3.按权利要求1或2所述的聚酯量子点膜，其特征是：所述高阻隔聚酯切片的制备方法是：首先，将240～340质量份的对苯二甲酸、50～80质量份的2,6－萘二甲酸、80～160质量份的乙二醇、0.01～0.5质量份高支链的多元醇、0.01～0.04质量份的聚酯合成用酯化催化剂、0.04～0.12质量份的缩聚催化剂和0.01～0.06质量份的稳定剂加入制浆罐中，开动搅拌机，以50～100转/分钟的速度打浆搅拌混合15～30分钟后，逐步加入一酯化釜，酯化反应温度控制在245～260℃、反应时间控制在3～4小时内加完，在保温250～265℃、保压1×10⁵～2×10⁵Pa的条件下15～40分钟后，当出水量达到理论出水量的95%以上时，酯化结束，将物料转入二酯化釜；第二，加入0.1～1.0质量份的多烯高级脂肪酸或/和醇，开动搅拌机以50～80转/分钟的速度搅拌，保持釜内温度在250～265℃，酯化15～40分钟后,将物料经过滤器过滤并压入缩聚釜；第三，当物料进入缩聚釜后开始进行预缩聚反应：开动搅拌机，以30～50转/分钟的速度在30～70分钟内将釜温升至270～280℃后，停止升温，同时将真空从常压降至100～150Pa，然后将搅拌机降至10～20转/分钟的速度，真空控制到0～100Pa进行聚合反应；经3～6小时聚合反应后，特性粘度达到0.60～0.70 dl/g时，停止搅拌和抽真空，充入氮气出料，即制得高阻隔聚酯切片；

所述高支链的多元醇为含3～12个碳并含有3个及以上活性羟基的多元醇中的任一种；所述聚酯合成用酯化催化剂为醋酸钴、醋酸钠、以及醋酸镁中的一种或两种以上的混合物；所述缩聚催化剂为三氧化二锑；所述稳定剂为磷酸三甲酯、磷酸三苯酯、以及磷酸中的一种或两种以上的混合物；所述多烯高级脂肪酸或/和醇为含16个碳及以上的含二烯或三烯脂肪酸、含16个碳及以上的含二烯或三烯脂肪醇中的任一种或两种以上的混合物。

4.按权利要求3所述的聚酯量子点膜，其特征是：所述制得高阻隔聚酯切片的熔点大于250℃、特性粘度为0.60～0.70dl/g 。

5.按权利要求1或2所述的聚酯量子点膜，其特征是：所述聚酯切片是聚酯对苯二甲酸乙二醇酯切片，其特性粘度为0.62～0.68dL/g、熔点为255～265℃、分子量为20000～30000。