[发明专利]超疏油涂层及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201811549972.0 | 申请日： | 2018-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN109487234A | 公开（公告）日： | 2019-03-19 |
| 发明（设计）人： | 董兵海;梁子辉;王世敏;程凡;赵丽;万丽;王二静;李静 | 申请（专利权）人： | 湖北大学 |
| 主分类号： | C23C16/40 | 分类号： | C23C16/40;C23C16/513;C23C16/56 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 覃蛟 |
| 地址： | 430062 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 纳米二氧化硅 疏油涂层 制备方法和应用 等离子增强 化学沉积法 低表面能 基材表面 等离子体增强化学气相沉积 附着力 含氟官能团 反应活性 氟化表面 氟化处理 附着力强 化学接枝 涂层表面 超疏水 水压 氟化 接枝 涂覆 | ||
1.一种超疏油涂层的制备方法，其特征在于，其包括：
对基材表面的纳米二氧化硅涂层进行氟化，其中，所述纳米二氧化硅涂层通过等离子体增强化学气相沉积法制备得到。
2.根据权利要求1所述的超疏油涂层的制备方法，其特征在于，所述纳米二氧化硅涂层通过以下步骤制备得到：将所述基材置于等离子体增强化学气相沉积腔室中，以SiH4和N2O为反应气源进行沉积。
3.根据权利要求2所述的超疏油涂层的制备方法，其特征在于，所述SiH4和所述N2O的体积比为1：0.1-5，更优选1：0.1-2。
4.根据权利要求1所述的超疏油涂层的制备方法，其特征在于，所述基材选自石英玻璃、硅片、云母片、陶瓷和聚乙烯中的一种。
5.根据权利要求1所述的超疏油涂层的制备方法，其特征在于，所述等离子体增强化学气相沉积法采用的沉积温度为30-300℃，优选150-250℃，更优选150-180℃；射频电源功率为20-200W，优选60-80W，更优选65～75W；工作压强为10-150Pa，优选80-100Pa，更优选85-95Pa；沉积时间为1-10min，优选5-10min，更优选6-9min。
6.根据权利要求1所述的超疏油涂层的制备方法，其特征在于，对基材表面的纳米二氧化硅涂层进行氟化具体包括：将所述纳米二氧化硅涂层放置于氟化器中，通入氟气进行氟化处理。
7.根据权利要求6所述的超疏油涂层的制备方法，其特征在于，氟化处理的温度为20-200℃，优选50-100℃，更优选70-90℃。
8.根据权利要求6所述的超疏油涂层的制备方法，其特征在于，氟化处理的时间为1-30min，优选5-10min，更优选地6～8min。
9.一种超疏油涂层，其特征在于，其由权利要求1～8任意一项所述的超疏油涂层的制备方法制备得到。
10.权利要求9所述的超疏油涂层在水下材料中的应用。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
