[发明专利]一种源瓶及半导体设备

权利要求书

1.一种源瓶，包括：瓶身以及固定安装在所述瓶身上的瓶盖，所述瓶身与所述瓶盖可形成密闭空间，所述瓶盖上还设置有与所述密闭空间连通的进气管以及出气管，所述进气管用于向所述密闭空间通入载气，所述出气管用于向所述密闭空间外输出反应前驱体和所述载气，其特征在于，还包括：

托盘，设置在所述密闭空间中，用于装载固态源；

盖板，与所述托盘相对设置；

升降装置，用于驱动所述盖板下降至遮盖所述托盘上的固态源的第一位置；或者上升至与所述托盘相分离的第二位置。

2.根据权利要求1所述的源瓶，其特征在于，所述托盘为多个，且多个所述托盘沿竖直方向间隔设置；

所述盖板为多个，且多个所述盖板与多个所述托盘一一对应设置；所述升降装置用于驱动多个所述盖板同步下降或者上升。

3.根据权利要求2所述的源瓶，其特征在于，多个所述托盘同心设置。

4.根据权利要求3所述的源瓶，其特征在于，所述进气管的一部分竖直设置在所述密闭空间中，并且在所述进气管上，且位于最上层的所述托盘上方以及每相邻的两层所述托盘之间均设置有至少一个出气口。

5.根据权利要求4所述的源瓶，其特征在于，多个所述托盘与所述进气管固定连接。

6.根据权利要求4所述的源瓶，其特征在于，在所述瓶盖中竖直设置有导向孔，所述进气管通过所述导向孔延伸至所述密闭空间的外部；并且，所述导向孔能够限定所述进气管的旋转自由度。

7.根据权利要求1-6任意一项所述的源瓶，其特征在于，所述进气管与所述托盘的边缘固定连接。

8.根据权利要求1-6任意一项所述的源瓶，其特征在于，在所述托盘的上表面设置有凹槽，用于盛放所述固态源；所述第一位置为所述盖板的下表面与所述托盘的上表面相贴合的位置；所述第二位置为所述盖板的下表面高于所述托盘的上表面预设距离的位置。

9.根据权利要求1-6任意一项所述的源瓶，其特征在于，所述进气管为多个，且多个所述进气管沿所述托盘边缘设置。

10.根据权利要求2所述的源瓶，其特征在于，所述升降装置包括导向杆、弹性件、固定支架、连接件和升降螺钉，其中，

所述导向杆竖直设置在所述密闭空间中，且与各个所述盖板连接，并且所述导向杆的上端贯穿所述瓶盖延伸至所述密闭空间的外部；

所述固定支架设置在所述瓶盖上，并且在所述固定支架中，且位于所述导向杆的上方竖直设置有螺纹孔；

所述升降螺钉设置在所述螺纹孔中，且与所述螺纹孔相配合；

所述连接件与所述升降螺钉的下端可旋转的连接，所述连接件与所述导向杆的上端固定连接；

所述弹性件设置在所述连接件与所述瓶盖之间。

11.根据权利要求10所述的源瓶，其特征在于，所述升降螺钉的末端设置有半球体；在所述连接件的上表面设置有用于容纳所述半球体的凹槽。

12.一种半导体设备，其特征在于，包括反应腔室、载气管路、源瓶和进气管路，其中，所述载气管路用于向所述源瓶输送载气；所述源瓶用于盛放固态源，所述源瓶采用权利要求1-11任意一项所述的源瓶；所述进气管路用于将所述源瓶中的所述载气和反应气体输送至所述反应腔室中。