[发明专利]阵列基板及其制造方法、显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括显示区域和扇出区域；在所述显示区域，设置有信号线，在所述扇出区域，设置有第一扇出线和第二扇出线，所述信号线与所述第一扇出线或第二扇出线连接；

在所述第一扇出线所在的第一扇出线层与所述第二扇出线所在的第二扇出线层之间，设置有间隔层；所述间隔层采用绝缘材料制作，用于增大所述第一扇出线层和第二扇出线层之间的层间间隔；所述第一扇出线的正投影与所述第二扇出线的正投影至少存在部分重叠；

所述第一扇出线层或第二扇出线层与所述阵列基板的遮光层为同一层；所述遮光层置于衬底基板上；所述遮光层用于遮挡从所述阵列基板背面入射的光线，以防止所述光线照射所述阵列基板的薄膜晶体管阵列中的有源层；

所述间隔层包括至少一层缓冲层和至少一层绝缘层；在所述第一扇出线所在的第一扇出线层与所述第二扇出线所在的第二扇出线层之间，设置所述至少一层缓冲层和所述至少一层绝缘层；

所述信号线包括数据线，所述阵列基板还包括转接线层，所述转接线层设置在所述数据线所在的数据线层与所述第一扇出线层之间，或者，设置在所述数据线所在的数据线层与所述第二扇出线层之间；所述转接线层包括转接线，所述数据线通过所述转接线连接所述第一扇出线或第二扇出线；

所述信号线还包括栅线；所述转接线层与所述栅线所在的栅线层为同一层。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一扇出线的正投影与所述第二扇出线的正投影重叠。

3.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1或2所述阵列基板。

4.一种制造如权利要求1所述的阵列基板的方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成包括第二扇出线的第二扇出线层；

在所述第二扇出线层上形成间隔层；

在所述间隔层上形成包括第一扇出线的第一扇出线层，所述第一扇出线的正投影与所述第二扇出线的正投影至少存在部分重叠；

在所述第一扇出线层上形成包括信号线的信号线层，所述信号线与所述第一扇出线或第二扇出线连接；

其中，所述间隔层采用绝缘材料制作，用于增大所述第一扇出线层和第二扇出线层之间的层间间隔；所述信号线形成在所述阵列基板的显示区域，所述第一扇出线和第二扇出线形成在所述阵列基板的扇出区域；

所述方法还包括：

在所述衬底基板上形成第一金属薄膜；

对所述第一金属薄膜进行图案化处理，形成遮光层和所述第二扇出线层；所述遮光层用于遮挡从所述阵列基板背面入射的光线，以防止所述光线照射所述阵列基板的薄膜晶体管阵列中的有源层；

所述信号线包括栅线，在所述第二扇出线层上形成间隔层之后，还包括：

在所述间隔层上形成第二金属薄膜；

对所述第二金属薄膜进行图案化处理，在所述显示区域形成栅线层，在所述显示区域和扇出区域的交界位置形成转接线层；

所述方法还包括：

在所述第一扇出线所在的第一扇出线层与所述第二扇出线所在的第二扇出线层之间，形成至少一层缓冲层和至少一层绝缘层。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述第一扇出线的正投影与所述第二扇出线的正投影重叠。