[发明专利]多波长光源设备、多功能投影仪、以及电子设备在审

专利信息
申请号: 201811462599.5 申请日: 2018-11-30
公开(公告)号: CN110571233A 公开(公告)日: 2019-12-13
发明(设计)人: 罗炳勋;柳长雨;韩承勋 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;H01L33/06;H01L33/46;G03B21/20
代理公司: 11021 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 范心田
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 反射层 波长 发光层 蚀刻停止层 发光元件 基板 纳米结构 配置 光源设备 发射
【说明书】:

公开了一种光源设备,包括:基板;第一发光元件,形成在基板上并且包括第一反射层、被配置为发射第二波长的光的第二发光层、第一蚀刻停止层、被配置为发射第一波长的光的第一发光层所述第一波长不同于第二波长,以及第一纳米结构反射层;以及第二发光元件,形成在基板上,与第一发光元件间隔开,并且包括具有与第一反射层相同的材料和厚度的第二反射层、具有与第二发光层相同的材料和结构并且被配置为生成第二波长的光的第三发光层、具有与第一蚀刻停止层相同的材料和厚度的第二蚀刻停止层,以及第二纳米结构反射层。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2018年6月5日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2018-0064909的优先权,其公开内容通过引用全部并入本文中。

技术领域

本公开涉及多波长光源设备、包括该多波长光源设备的多功能投影仪,以及包括该多功能投影仪的电子设备。

背景技术

诸如光圈传感器或深度传感器等各种传感器使用在移动和可穿戴设备中。此外,减少在诸如平板计算机、个人计算机、无人机或物联网(IoT)等领域中使用的传感器的大小和功耗的趋势一直存在。

现有传感器根据其功能使用微光学技术,并且包括投影仪或扫描仪所需的照明组件。因此,需要许多光源和光学元件,并且由这些光学元件占据的体积是影响传感器的设计精度和制造条件的因素。

发明内容

提供了一种用于发射多波段下的光的光源设备。

提供了一种包括该光源设备的多功能投影仪和一种包括该多功能投影仪的电子设备。

其它方面部分地将在以下描述中阐述,且部分地将通过以下描述而变得清楚明白,或者可以通过提出的实施例的实践来获知。

根据实施例的一方面,一种光源设备包括:基板;第一发光元件,形成在基板上并且包括第一反射层、被配置为发射第二波长的光的第二发光层、第一蚀刻停止层、被配置为发射第一波长的光的第一发光层,所述第一波长与所述第二波长不同,以及第一纳米结构反射层;以及第二发光元件,形成在基板上,与第一发光元件间隔开,并且包括具有与第一反射层相同的材料和厚度的第二反射层、具有与第二发射层相同的材料和结构并且被配置为生成第二波长的光的第三发光层、具有与第一蚀刻停止层相同的材料和厚度的第二蚀刻停止层,以及第二纳米结构反射层。

光源设备可以具有单块结构。

第一波长可以大于第二波长。

第一发光层和第二发光层中的每一个均可以具有量子阱结构,其中,第一发光层的量子阱结构的带隙能量小于第二发光层的量子阱结构的带隙能量。

可以设定第一反射层与第一纳米结构反射层之间的距离,使得第一发光元件被配置为发射第二波长的光。

第一反射层与第一纳米结构反射层之间的距离可以是第一波长的第一整数倍。

第二反射层与第二纳米结构反射层之间的距离可以是第二波长的第二整数倍。

第一整数可以大于第二整数。

第一波长与第二波长之间的差可以是约50nm或更大。

第一波长可以在红外波段中,并且第二波长可以在可见光波段中。

第一发光元件和第二发光元件可以发射不同偏振的光。

第一纳米结构反射层可以包括相对于第一波长的光具有亚波长形状尺寸的多个第一纳米结构。

第二纳米结构反射层可以包括相对于第二波长的光具有亚波长形状尺寸的多个第二纳米结构。

第一发光元件可以沿着彼此间隔开并且彼此平行的多个行设置,并且第二发光元件可以沿着与该多个行交替的多个行设置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811462599.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top