[发明专利]包括与升降的引导部联动的联动部的基板处理装置有效

申请号：	201811368339.1	申请日：	2018-11-16
公开（公告）号：	CN109473383B	公开（公告）日：	2021-12-03
发明（设计）人：	郑相坤;金亨源;权赫俊;郑熙锡	申请（专利权）人：	吉佳蓝科技股份有限公司
主分类号：	H01L21/67	分类号：	H01L21/67;H01L21/687
代理公司：	北京银龙知识产权代理有限公司 11243	代理人：	金鲜英;张敬强
地址：	韩国***	国省代码：	暂无信息
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摘要：
搜索关键词：	包括升降引导联动处理装置
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【说明书】：

本发明涉及一种包括与在腔室内部升降的引导部联动的联动部的基板处理装置。本发明包括：腔室，其包括处理物质的形成区域、处理区域以及排出区域；夹盘，其使所述基板位于所述处理区域；引导部，其将所述处理物质引导至所述处理区域；上升下降部，其在所述基板被搬入及搬出所述腔室时在所述腔室内部使所述引导部上升，并在处理所述基板时在所述腔室内部使所述引导部下降；驱动部，其向所述上升下降部提供驱动力；以及一个以上的联动部，其与所述上升下降部联动，所述上升下降部在上升下降的一部分区间使所述引导部和所述联动部一同升降，且在上升下降的另外的一部分区间使所述引导部升降。

技术领域

本发明涉及一种包括在腔室内部将基板处理物质引导至处理区域的引导部的基板处理装置。

背景技术

基板处理装置是执行半导体工程的装置，详细而言，是用处理物质处理基板的装置。

此时，基板可以意指晶圆或安装有晶圆的托盘，处理物质可以意指用于处理基板的气体或等离子。

例如，基板处理装置可以是用等离子执行刻蚀、蒸镀以及灰化中的一个以上的装置，或用金属气体执行蒸镀的装置。

这种基板处理装置包括腔室。

在腔室的内部包括作为形成处理物质的区域的形成区域、作为用处理物质处理基板的区域的处理区域以及作为与泵连接而排出处理物质的区域的排出区域。

基板通过形成于形成区域与处理区域之间的基板出入口由机械臂移送，从腔室的外部被搬入腔室的内部而安放于夹盘的上部。

然而，为了进行基板处理，形成区域与处理区域之间接近，因而存在基板被搬入腔室内部的空间不足的问题。

尤其，当在腔室内部具备将基板处理物质引导至处理区域的机构性结构时，空间不足问题变得更大。

为解决这种问题，以往，通过夹盘升降来确保基板被搬入腔室内部的空间。