[发明专利]一种微纳结构的制备方法在审
| 申请号： | 201811019444.4 | 申请日： | 2018-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN109110729A | 公开（公告）日： | 2019-01-01 |
| 发明（设计）人： | 叶鑫;胡锡亨;邵婷;伍景军;石兆华;夏汉定;李青芝;刘红婕;杨李茗;郑万国;吴卫东;黄进;王凤蕊 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 刘奇 |
| 地址： | 610000*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 微纳结构 制备 等离子体刻蚀 形貌 覆盖玻璃 含氟气体 金属基板 玻璃片 覆盖 | ||
1.一种微纳结构的制备方法，包括以下步骤：
(1)在金属基板单面部分覆盖玻璃片，得到基体；
(2)在所述步骤(1)得到的基体覆盖有玻璃片的一面进行等离子体刻蚀，在所述玻璃片表面形成微纳结构；所述等离子体刻蚀用气体包括含氟气体和Ar。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中金属基板的材质包括不锈钢、铝或铜。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中的含氟气体包括CHF3、CF4和SF6中的一种或多种。
4.根据权利要求1～3任一项所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中，含氟气体的气体流量为5～75sccm；所述Ar的气体流量为10～100sccm。
5.根据权利要求1～3任一项所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)等离子体刻蚀的时间为5～60min。
6.根据权利要求1～3任一项所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)等离子体刻蚀的压强为1～15Pa。
7.根据权利要求1～3任一项所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)等离子体刻蚀的功率为100～500W。
8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中玻璃片的材质包括石英玻璃、硼硅玻璃和耐辐照玻璃中的一种或多种。
9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中金属基板与玻璃片的面积之比大于4:1。
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