[发明专利]用于复合手表部件的保护涂层

说明书

本发明提供一种用于保护复合手表部件免受气体环境影响的方法，其特征在于，将复合手表部件的整个表面或部分表面通过原子层沉积(ALD)涂覆用肉眼观察不可见的保护涂层。本发明还提供了一种用于获得复合手表部件的方法，以及一种包括保护性ALD涂层的复合手表部件。

技术领域

本发明涉及一种用于在包括多个部分的手表部件(在下文中称为“复合手表部件”)上提供保护涂层的方法，该保护涂层在复合手表部件例如完整表盘的所有表面或部分表面上。此外，本发明涉及具有保护涂层的复合手表部件，特别是成品表盘。优选地，这些具有保护涂层的复合手表部件用于售后服务或长时间存储。

背景技术

成品的准备安装的手表表盘包括装饰的表盘、刻度和标记，通常存储在非密封和非防水的条件下。在子公司或当地零售商处的售后服务中，它们的储存或运输可能是在不可控条件下的。这些条件确实不同，而且比如果要将表盘插入到非常高品质的防水手表中表盘所要经受的要求更苛刻。这将导致的后果是如果售后服务制表师想要将其中一个装配到被服务的手表时，长期存放的成品表盘的背面，甚至有时是可见面，可能会出现美学方面不符合质量标准的问题。这将造成高附加值部件的损失。

已知的用于保护手表部件的涂层是聚合物，即基于聚(p-p二甲苯)的聚合物，例如Parylene N,Parylene C etc.(CH 706 915A)。它们通过CVD获得，用于保护由银、金、铂、贵金属或其合金制成的手表部件，防止由汗液中存在的硫化合物(如H₂S)或存在于环境空气中的气体(如SO₂、SO₃、COS、CS₂、二甲基硫醚)引起的变色、钝化和腐蚀。

ALD技术自七十年代就已为人所知。自2000年以来，它已被更广泛地研究，但仅限于食品或半导体工业的应用。这在文献FR 2 797 995A1和Atomic layer depositedprotective coatings for micro-electromechanical systems(N.D.Hoivik et al.,Sensor and Actuators A 103(2003)pp.100-108)中有所描述。

取决于几个参数的、一定范围厚度的薄ALD层实际上是不可见的。

ALD层可见的最大厚度可以是几个金属原子层，一些几十纳米的氧化物，或者一些几百纳米的多层氧化物(如用于抗反射应用的多层氧化物)。例如，在铝上具有60nm厚度的TiO₂层使样品呈浅蓝色。因此，ALD层或涂层的可见性在很大程度上取决于层的类型、层的化学组成、沉积的子层的堆叠方式、层或子层的厚度、涂层的总厚度以及基板的粗糙度和颜色。

根据Atomic Layer Deposition(ALD):une technologie prometteuse pour l’industrie horlogère,D.Grange et al.,SSC Bulletin no.81,43,May 2016，手表部件上的氧化物层的ALD沉积是已知的。

该文献详细解释了ALD方法的原理、优点以及反应机理。特别地，通过该技术可以产生单分子层，从而使得涂层的生长严格受控。如果多个层彼此堆叠，则可以获得没有针孔或缺陷的非常致密的涂层。根据该文献，ALD层可以用于钟表业的装饰目的。特别地，据报道，通过ALD在反射基板上沉积一层如由氧化铝制成的薄的透明层可以获得干涉色，该反射基板将呈现新的颜色，该颜色对于沉积层的性质和厚度是特定的。该方法适用于涂覆非常复杂的几何形状，因为反应气体将容易地到达基板的每个部分。根据该文献，ALD可以应用于抗反射层或涂层。此外，可以通过施加具有不同化学性质的层来结合不同层的性能，从而构建特定的涂层。

ALD(原子层沉积)技术是CVD(化学气相沉积)技术的变型，包括从部件表面上的气态前体发出的化学物质的化学吸附。