[发明专利]用于复合手表部件的保护涂层

权利要求书

1.一种用于保护复合手表部件免受气体环境影响的方法，其特征在于，将复合手表部件的整个表面或部分表面通过原子层沉积(ALD)涂覆保护涂层。

2.一种用于通过制造复合手表部件的常规步骤制造复合手表部件的方法，其特征在于，通过原子层沉积(ALD)将保护涂层施加到由此获得的复合手表部件的整个表面或部分表面上，任选地在施加常规涂层之前或之后。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述手表部件是成品表盘。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述的保护涂层不能通过肉眼观察看到。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的方法，其中在ALD涂覆之前的复合手表部件与涂覆有ALD的复合手表部件之间的颜色变化△ELab低于4，优选地低于1。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的方法，其中所述复合手表部件用于售后服务和/或长期存储。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的方法，其中所述ALD涂层包括一个或多个层，所述层可以相同或不同，选自金属氧化物、金属氮化物、金属氧碳氮化物、金属碳氮化物和金属硫化物层。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的方法，其中所述ALD涂层包括一个或多个相同或不同的金属氧化物层。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述一个或多个金属氧化物层选自Al₂O₃、TiO₂、Ta₂O₅层和/或Al₂O₃和TiO₂的层的组合。

10.根据权利要求1-9中任一项的方法，其中环境中的气态组分是水蒸气和/或氧气和/或含硫化合物。

11.根据权利要求1-10中任一项所述的方法，其中所述ALD涂层的厚度为至少一个原子单层，优选为至少5nm。

12.根据权利要求1-11中任一项所述的方法，其中所述ALD涂层的厚度为从一个原子单层至100nm，优选为6nm至100nm，最优选为6nm至50nm。

13.一种复合手表部件，其特征在于，复合手表部件的整个表面或部分表面涂覆有通过原子层沉积(ALD)形成的保护涂层，该复合手表部件可通过根据本发明权利要求1-12中任一项所述的方法获得。