[发明专利]一种蚀刻系统

权利要求书

1.一种蚀刻系统，其特征在于，包括蚀刻液的运输管路，运输管路上设置有进液泵和真空发生器；真空发生器包括三通管和增压管；三通管的进液端、出液端和外接端对应连接前管部、后管部和吸液管，前管部和后管部是运输管路中的部分管路；增压管的前端设置在前管部的出液口上，增压管的后端和后管部的进液口之间设有能使吸液管与后管部相连通的引流通道，增压管内设置有截面由前端至后端逐渐减小的增压通道，前管部和后管部经增压通道相连通；吸液管的另一端连通用于吸取蚀刻废液的吸液组件；运输管路上连通有用于喷出蚀刻液的喷液组件；运输管路中设置有储液槽，后管部连通储液槽；喷液组件所喷出的一部分蚀刻液扩散至电路板边缘后滴落至储液槽，另一部分蚀刻液依次经吸液组件、吸液管、引流通道和后管部流至储液槽。

2.根据权利要求1所述的一种蚀刻系统，其特征在于，所述吸液组件包括由上至下依次设置的吸液管、顶罩和吸液筒，顶罩底部开槽形成中转腔室，吸液管连通中转腔室，吸液筒的外侧壁与顶罩底部槽内侧壁密封配合，吸液筒的底部开设有吸液孔，吸液筒的顶部开设有连通中转腔室的第三排液孔。

3.根据权利要求2所述的一种蚀刻系统，其特征在于，所述吸液筒的底部沿其长度方向开设有相互平行的至少两排吸液孔，吸液孔呈沿吸液筒长度方向延伸的长条形。

4.根据权利要求2所述的一种蚀刻系统，其特征在于，所述第三排液孔呈圆形，第三排液孔的孔面积大于吸液孔的孔面积。

5.根据权利要求1所述的一种蚀刻系统，其特征在于，所述吸液组件包括有内筒和旋转套筒，内筒设置在旋转套筒内且能够相对其转动，旋转套筒的外表面绕周向布置有若干第一排液孔，内筒的底部设置有第二排液孔；旋转套筒转动，第二排液孔依次与周向相邻的第一排液孔连通；内筒的端部连通有吸液管。

6.根据权利要求5所述的一种蚀刻系统，其特征在于，所述内筒的底部沿其长度方向开设有相互平行的至少两排第二排液孔。

7.根据权利要求5所述的一种蚀刻系统，其特征在于，所述第一排液孔还沿其长度方向均布在旋转套筒的外表面。

8.根据权利要求1所述的一种蚀刻系统，其特征在于，所述喷液组件包括主体，主体内开设有相互连通的混合腔和缓冲腔，混合腔连通有第一进液管，缓冲腔连通有进气管，主体的底部设置有喷管，喷管的内腔连通混合腔。

9.根据权利要求8所述的一种蚀刻系统，其特征在于，所述混合腔设置位置低于缓冲腔，混合腔设置在缓冲腔的斜下方。

10.根据权利要求8所述的一种蚀刻系统，其特征在于，所述内腔呈锥状，其内径从连通混合腔的端部至喷出的端部逐渐减小。