[发明专利]一种异质成核高效多晶铸锭坩埚处理方法在审
| 申请号： | 201810559486.0 | 申请日： | 2018-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN108560047A | 公开（公告）日： | 2018-09-21 |
| 发明（设计）人： | 郭宽新;刘郭军;方圆 | 申请（专利权）人： | 河南盛达光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B28/06 | 分类号： | C30B28/06;C30B29/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 455000 河南*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 喷涂 混合剂 硅粉 氮化硅粉 碳化硅粉 形核剂 多晶铸锭坩埚 异质成核 多晶硅铸锭炉 装料 石英坩埚 混合物 沉积层 成品率 氮化硅 碳化硅 成形 硅锭 核剂 粒径 铸锭 坩埚 酒精 保证 | ||
1.一种异质成核高效多晶铸锭坩埚处理方法，它包括碳化硅粉、硅粉和氮化硅粉，其特征在于：所述处理方法包括如下步骤：
1）将碳化硅粉、硅粉、氮化硅粉、酒精与纯水混合物，搅拌成均匀的混合剂，将混合剂喷涂在已经正常喷涂好的石英坩埚底部，待形核剂干燥后装料，投多晶硅铸锭炉铸锭。
2）为保证硅锭的纯度和正常喷涂，上述形核剂中的碳化硅粉、硅粉和氮化硅粉纯度>99.9%，粒径位于1～100um。
3）上述形核剂中的碳化硅、硅粉和氮化硅按照一定比例混合成形核剂。
4）上述的混合剂喷涂干燥后，沉积层厚度位于0.1～5mm。
5）上述混合剂是喷涂到已经处理好的坩埚底部。
2.根据权利要求1所述的一种异质成核高效多晶铸锭坩埚处理方法，其特征在于：所述硅液在混合剂量表面为形核中心，在长晶初期形成大量晶粒。
3.根据权利要求1所述的一种异质成核高效多晶铸锭坩埚处理方法，其特征在于：使用纯度大于99.9%的碳化硅、硅粉和氮化硅粉，硅粉和氮化硅粒径小于100um，按照重量比30%：20%：50%混合取重量300g，溶于300mL配制好的溶剂中，配制成混合剂。
4.根据权利要求1所述的一种异质成核高效多晶铸锭坩埚处理方法，其特征在于：所述上述形核剂中的碳化硅，硅粉、氮化硅粉中配比范围在10%～40%：5%～40%:20%～85%。
5. 根据权利要求1所述的一种异质成核高效多晶铸锭坩埚处理方法，其特征在于：所述上述的形核剂的用量为：喷涂在坩埚上干燥后，在坩埚的沉积厚度为0.1mm ～3mm。
6.根据权利要求1所述的一种异质成核高效多晶铸锭坩埚处理方法，其特征在于：所述纯水混合物与酒精的比例为100:1到3:1之间。
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