[发明专利]清洗机

说明书

本发明涉及一种清洗机。该清洗机具有供待清洗基板进入的搬入侧，以及供清洗后基板离开的搬出侧，包括：异物检出单元和返洗单元；该异物检出单元位于搬出侧之前，用于在基板离开清洗机之前检测基板是否清洗合格；该返洗单元位于搬出侧和搬入侧之间，用于将异物检出单元检测不合格的基板从搬出侧返回至搬入侧以由清洗机重新清洗。本发明的清洗机能够提高产出基板洗净良率，减少水残或未洗净物等对下游涂布机设备的影响，提高涂布前返洗效率；加快产线涂布前异常处理的效率，降低异常基板返洗的材料及时间损耗。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种清洗机。

背景技术

平面显示器件具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。现有的平面显示器件主要包括液晶显示器件(Liquid Crystal Display，LCD)及有机发光二极管显示器件(Organic Light Emitting Display，OLED)。

以液晶显示器为例，其通常由彩膜基板(Color Filter，CF)、薄膜晶体管基板(Thin Film Transistor，TFT)、夹于彩膜基板与薄膜晶体管基板之间的液晶(LiquidCrystal，LC)及密封胶框(Sealant)组成，其成型工艺一般包括：前段阵列(Array)制程(薄膜、黄光、蚀刻及剥膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板与CF基板贴合)及后段模组组装制程(驱动IC与印刷电路板压合)。

在液晶显示行业，常使用到涂布成膜的工艺，玻璃基板经过清洗后涂布光阻，再经过曝光显影等工艺形成一定图形的膜层。

基板清洗设备是必不可少的设备：清洗机(Cleaner)—用于玻璃基板表面涂布前的清洗，去除颗粒(Particle)和有机物等脏污。

现有常规产线清洗机设计具备有机物清洗单元、湿清洗单元、风刀(AK)干燥单元，基板经过清洗洗净干燥后直接进入光阻涂布机(Coater)，存在如下问题：

1、现行清洗机(Cleaner)设计无洗净检测功能，若基板未洗净，则直接进入下游设备。存在污染下游设备、浪费产线时间及材料等问题。

2、现行清洗机洗净后的基板，难免偶发干燥不良的异常。此类基板进入下游涂布机后，基板表面水残留被涂布机(Coater)的检知装置检出，然后基板被判返洗，需经历整条产线设备后重投入清洗机。同样存在流程繁琐、浪费产线时间等问题。

发明内容

因此，本发明的目的在于提供一种清洗机，提高清洗机产出基板洗净良率，减少水残对下游涂布机设备的影响，提高涂布前返洗效率。

为实现上述目的，本发明提供了一种清洗机，具有供待清洗基板进入的搬入侧，以及供清洗后基板离开的搬出侧，包括：异物检出单元和返洗单元；该异物检出单元位于搬出侧之前，用于在基板离开清洗机之前检测基板是否清洗合格；该返洗单元位于搬出侧和搬入侧之间，用于将异物检出单元检测不合格的基板从搬出侧返回至搬入侧以由清洗机重新清洗。

其中，所述异物检出单元包括用于检测基板表面水残留的水残检出装置和/或用于检测基板表面洁净度的洁净度检测装置。

其中，所述水残检出装置包括红外发射器和红外接收器，该红外发射器设置为从基板一侧紧贴基板上表面发射红外光，该红外接收器设置为从基板另一侧接收红外发射器所发射红外光，根据红外光接收情况检测基板是否异常。

其中，所述洁净度检测装置包括投光器和受光镜头，该投光器设置为向基板下或上表面提供光源，该受光镜头设置为从基板另一侧表面接收光源，根据灰度数据检测基板是否异常。

其中，所述水残检出装置位于洁净度检测装置之前，基板先由水残检出装置进行检测。