[发明专利]清洗机有效
申请号: | 201810381654.1 | 申请日: | 2018-04-25 |
公开(公告)号: | CN108538764B | 公开(公告)日: | 2020-09-01 |
发明(设计)人: | 施杰 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/02 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂;刘巍 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗 | ||
1.一种清洗机,具有供待清洗基板进入的搬入侧,以及供清洗后基板离开的搬出侧,其特征在于,包括:异物检出单元和返洗单元;该异物检出单元位于搬出侧之前,用于在基板离开清洗机之前检测基板是否清洗合格;该返洗单元位于搬出侧和搬入侧之间,用于将异物检出单元检测不合格的基板从搬出侧返回至搬入侧以由清洗机重新清洗;
所述返洗单元包括第一竖直移动滑轨,水平移动滑轨,第二竖直移动滑轨,吸盘,以及伺服马达;该水平移动滑轨一端连接位于搬入侧的第一竖直移动滑轨上部,另一端连接位于搬出侧的第二竖直移动滑轨上部;需要返洗基板时,该伺服马达驱动吸盘沿第一竖直移动滑轨或第二竖直移动滑轨上下运动以使吸盘从竖直方向上接近或远离基板,该吸盘通过气动控制吸取或放下基板,该伺服马达驱动吸盘沿水平移动滑轨前后运动以将基板由搬出侧返回至搬入侧。
2.如权利要求1所述的清洗机,其特征在于,所述异物检出单元包括用于检测基板表面水残留的水残检出装置和/或用于检测基板表面洁净度的洁净度检测装置。
3.如权利要求2所述的清洗机,其特征在于,所述水残检出装置包括红外发射器和红外接收器,该红外发射器设置为从基板一侧紧贴基板上表面发射红外光,该红外接收器设置为从基板另一侧接收红外发射器所发射红外光,根据红外光接收情况检测基板是否异常。
4.如权利要求2所述的清洗机,其特征在于,所述洁净度检测装置包括投光器和受光镜头,该投光器设置为向基板下或上表面提供光源,该受光镜头设置为从基板另一侧表面接收光源,根据灰度数据检测基板是否异常。
5.如权利要求2所述的清洗机,其特征在于,所述水残检出装置位于洁净度检测装置之前,基板先由水残检出装置进行检测。
6.如权利要求1所述的清洗机,其特征在于,还包括位于搬入侧的搬入单元,用于搬入基板;该第一竖直移动滑轨设于该搬入单元内。
7.如权利要求1所述的清洗机,其特征在于,还包括位于搬出侧的搬出单元,用于搬出基板;该第二竖直移动滑轨设于该搬出单元内。
8.如权利要求1所述的清洗机,其特征在于,还包括沿基板搬送方向顺序设置的机物清洗单元,干湿缓冲区,湿清洗单元,和/或干燥单元。
9.如权利要求1所述的清洗机,其特征在于,还包括搬送滚轮,所述搬送滚轮在清洗机内自搬入侧水平分布至搬出侧,用于在清洗机内从搬入侧向搬出侧搬送基板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造