[发明专利]一种玻璃蚀刻液及其制备方法

说明书

本发明公开了一种玻璃蚀刻液及其制备方法，按质量份数计，所述玻璃蚀刻液包括以下组分：磷酸10‑30份，硝酸10‑40份，硫酸10‑20份，盐酸5‑20份，氟化氢铵5‑15份，纳米氟化物2‑6份，表面活性剂2‑10份，重铬酸钾1‑5份，聚乙烯吡咯烷酮5‑10份，水0‑50份。本发明不使用氢氟酸，大大降低了蚀刻液的毒性，有利于环保；本发明的蚀刻液在实际的生产和操作过程中更加安全可靠，而且本发明的蚀刻液在过滤后可以循环使用，蚀刻速率非常稳定，蚀刻质量好，良品率达96％以上。

技术领域

本发明涉及玻璃薄化技术领域，具体涉及一种玻璃蚀刻液及其制备方法。

背景技术

近年来，智能手机、平板电脑、笔记本电脑和超薄电视机上都需要使用液晶显示屏，而液晶显示屏是将液晶保持在玻璃之间，生产厂家希望进一步减轻显示装置的厚度和重量，会要求加工后的玻璃基板具有很薄的厚度，触控屏的厚度通常只有0.4mm～0.6mm，由于玻璃基板生产工艺的限制，生产出的玻璃基板较厚。为了达到使玻璃基板变薄的目的，玻璃基板的蚀刻成为重要的问题。

现有市场上的蚀刻液对玻璃基板的蚀刻速率较快，蚀刻量不容易控制，不能很好的对基板厚度进行控制，有的无法有效溶解硅酸盐，有的会产生较强的电离作用，生成过多的氢氟酸，会导致蚀刻速率不易控制，有时蚀刻液会产生大量气泡，降低蚀刻速率。

因此，需要能够更加精准、高效地研磨或蚀刻玻璃基板的研磨液或蚀刻液，其能有效去除附着在玻璃基板表面的杂质，从而提高产品合格率和良品率，同时可以对玻璃基板厚度的控制提供精确的保证。

此外，现在常用的蚀刻液中通常含有氢氟酸，导致存在着一些负面问题，比如玻璃与氢氟酸反应，会生成氟硅酸，随着反应的进行，蚀刻液中氟硅酸浓度增加，超过氟硅酸溶解度临界点后，在玻璃边缘形成氟硅酸白色结晶，会隔绝玻璃和氢氟酸，影响结晶所在区域蚀刻过程的进行，进而导致不同区域玻璃蚀刻程度不一致，影响产品最终性能。并且蚀刻液的蚀刻速率不稳定以及利用率较低。再者，氟硅酸结晶体随着体积的增大，会影响外观，且常规清洗无法将其清除掉，包括常见的酸性、碱性、中性清洗液，酒精擦拭等均无法清洁氟硅酸。并且氢氟酸是一种高危害的强酸，又称“腐骨酸”，高浓度的氢氟酸对皮肤有强烈刺激性和腐蚀性，可致人死亡，使用后的氢氟酸难以处理，容易污染环境。

发明内容

针对现有技术存在的问题，本发明提供了一种玻璃蚀刻液及其制备方法。

本发明采用以下技术方案：

一种玻璃蚀刻液，按质量份数计，包括以下组分：

优选地，按质量份数计，所述玻璃蚀刻液由以下组分组成：磷酸10-30份，硝酸10-40份，硫酸10-20份，盐酸5-20份，氟化氢铵5-15份，纳米氟化物2-6份，表面活性剂2-10份，重铬酸钾1-5份，聚乙烯吡咯烷酮5-10份，水0-50份。可选地，所述玻璃蚀刻液由以下组分组成：磷酸15-30份，硝酸15-30份，硫酸15-20份，盐酸10-20份，氟化氢铵5-10份，纳米氟化物2-6份，表面活性剂2-8份，重铬酸钾1-5份，聚乙烯吡咯烷酮5-10份，水5-30份。

进一步地，所述磷酸中的H₃PO₄的质量百分含量为10～30％；所述硝酸中的HNO₃的质量百分含量为10～40％；所述硫酸中的H₂SO₄的质量百分含量为10～30％；所述盐酸中的HCl的质量百分含量为10～30％。

进一步优选地，所述硝酸中的HNO₃与盐酸中的HCl的质量比为5～8。

进一步地，所述纳米氟化物为纳米氟化钙和/或纳米氟化钠。

进一步优选地，所述纳米氟化物的粒径为5-100nm。