[发明专利]正型感光性聚硅氧烷组合物

说明书

本发明有关正型感光性聚硅氧烷组合物，用于形成TFT基板的平坦化膜或层间绝缘膜，或光波导路芯材或包覆材的保护膜，其具有耐化学性佳的特性。该正型感光性硅氧烷组合物包含聚硅氧烷(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、溶剂(C)及硅烷化合物(D)。

技术领域

本发明有关于一种适用于液晶显示组件、有机电激发光显示组件等的TFT基板的平坦化膜或层间绝缘膜，或光波导路的芯材或包覆材的保护膜的正型感光性硅氧烷组合物，及由其形成的薄膜、及具有该薄膜的装置。特别是提供一种耐化学性佳的正型感光性聚硅氧烷组合物、其所形成的薄膜，以及具有薄膜的装置。

背景技术

近年来，在半导体工业、液晶显示器或有机电激发光显示器等领域中，随着尺寸的日益缩小化，对于微影工艺中所需的图案的微细化亦要求日高。为了达到微细化的图案，一般是通过具有高解析及高感度的正型感光性材料经曝光及显影而形成，其中，以聚硅氧烷聚合物为成分的正型感光性材料渐成为业界使用的主流。

在液晶显示器或有机电激发光显示器中，层状配线间通常会配置层间绝缘膜以作为绝缘。正型感光性材料由于获得图案形状的必要工序数较少，同时，所获得的绝缘膜平坦度佳，故被广泛使用于形成层间绝缘膜的材料。

例如，用于液晶显示器的层间绝缘膜，其形成微细配线的接触孔的图案是必要的。而实际上，负型感光性组合物形成的接触孔，达可使用水平的孔径十分困难，因此，业界广泛使用正型感光性组合物，以形成液晶显示组件的层间绝缘膜(如日本特开2001-354822号所示)。

一般作为形成层间绝缘膜的正型感光性组合物的主要成分为丙烯酸类树脂，但使用硅氧烷类材料的感光性组合物，其耐热性及透明性皆较使用丙烯酸类树脂材料的感光性组合物佳(如日本特开2000-1648号所示)。

然而，硅烷化合物或聚硅氧烷的聚硅氧烷类材料，因其本身易与同类或不同类化合物产生水解缩合反应。在制备正型感光性组合物时，这些副反应的发生会导致该正型感光性组合物的保存稳定性变差，其产品的寿命亦会缩短。

为抑制上述的缩合反应，业界已开发通过控制聚硅氧烷的分子量以及分枝结构以抑制缩合反应。日本特开2003-163209号揭示通过酸催化剂、金属螯合物和碱催化剂的作用可得到不同分子量的聚硅氧烷以控制该聚硅氧烷的结构。然而，上述公报虽然公开了聚硅氧烷的各种分子量，但其并未考虑到该聚硅氧烷的感光特性；除介电常数外，也未考虑到层间绝缘膜的各种特性。

在此情况下，日本特开2011-123450号揭示一种正型感光性聚硅氧烷组合物，其具有优异的感光性、保存安定性及耐熔体流动性，然而，该正型感光性聚硅氧烷组合物的耐化学性不佳，故无法令业界所接受。

因此，如何同时达到目前业界对耐化学性的要求，为本发明所属技术领域中努力研究的目标。

发明内容

本发明利用提供特殊硅烷化合物的成分，而得到耐化学性佳的正型感光性聚硅氧烷组合物。

因此，本发明提供一种正型感光性聚硅氧烷组合物，其包含：

聚硅氧烷(A)；

邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；

溶剂(C)；及

硅烷化合物(D)；

其中，该硅烷化合物(D)具式(D-1)所示的结构：

式(D-1)中：

R¹表示未经取代或经取代的碳数1至10的烷基，或未经取代或经取代的碳数6至10的芳基；