[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置

说明书

本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，所述阵列基板包括位于衬底基板上的第一金属图形和覆盖所述第一金属图形的绝缘层，所述绝缘层形成有用于导流取向液的导流槽，所述导流槽在所述衬底基板上的正投影完全落入所述第一金属图形在所述衬底基板上的正投影内。本发明的技术方案能够提高阵列基板的良率和寿命，同时可以确保导流槽的功能。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是指一种阵列基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

在目前的液晶显示器的制作工艺中，取向液的喷涂对于大尺寸玻璃基板有着明显的优势，但是在进行取向液的喷涂时，由于阵列基板形貌差异(走线层的多少、走线的走向和分布密度不同导致)，取向液扩散快慢不同，在扩散慢且表面张力较大的区域，取向液产生起伏的表面，这就容易产生取向液扩散不均匀，进而导致阵列基板显示色彩不均。

为了使取向液的表面张力均匀分布，释放阵列基板的不平坦位置(例如，与过孔对应的位置)取向液的表面张力，使取向液平坦化、均匀化，现有的阵列基板在最上层的膜层形成有导流槽，为了更好地引导取向液流入导流槽，需要形成具有段差的导流槽。现有技术中在形成导流槽时，对阵列基板最上层的绝缘层进行构图形成暴露出绝缘层下的金属图形的过孔，导流槽即利用过孔形成，导流槽的一半位于金属图形上，另一半位于绝缘层上，由于绝缘层的刻蚀速率大于金属图形的刻蚀速率，因此，位于绝缘层上的半个导流槽易被过刻，在导流槽底部会产生倒角，后续导电层(比如像素电极层)在绝缘层上沉积时在倒角处会断线，并且用于刻蚀导电层的刻蚀液会残留在导流槽内，腐蚀阵列基板的金属图形，影响阵列基板的性能。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置，能够提高阵列基板的良率和寿命，同时可以确保导流槽的功能。

为解决上述技术问题，本发明的实施例提供技术方案如下：

一方面，提供一种阵列基板，所述阵列基板包括位于衬底基板上的第一金属图形和覆盖所述第一金属图形的绝缘层，所述绝缘层形成有用于导流取向液的导流槽，所述导流槽在所述衬底基板上的正投影完全落入所述第一金属图形在所述衬底基板上的正投影内。

进一步地，所述第一金属图形包括水平高度不同的第一区域和第二区域，所述第一区域和所述第二区域相邻，所述导流槽的槽底在所述衬底基板上的正投影与所述第一区域在所述衬底基板上的正投影的至少一部分重合，所述导流槽的槽底在所述衬底基板上的正投影与所述第二区域在所述衬底基板上的正投影的至少一部分重合。

进一步地，所述第一区域的水平高度高于所述第二区域的水平高度，所述阵列基板还包括：

位于所述衬底基板和所述第一区域之间的第二金属图形。

进一步地，所述阵列基板还包括：

位于所述第二金属图形和所述衬底基板之间的透明导电图形。

进一步地，所述第一金属图形为源漏金属图形，所述第二金属图形为栅金属图形，所述透明导电图形与所述阵列基板的公共电极同层同材料设置。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的阵列基板。

本发明实施例还提供了一种阵列基板的制作方法，包括：

在衬底基板上形成第一金属图形；

形成覆盖所述第一金属图形的绝缘层，对所述绝缘层进行构图形成用于导流取向液的导流槽，所述导流槽在所述衬底基板上的正投影完全落入所述第一金属图形在所述衬底基板上的正投影内。

进一步地，所述在衬底基板上形成第一金属图形包括：