[发明专利]基于沟槽深度的电磁感应监测进行的过抛光

权利要求书

1.一种抛光系统，包括：

工作台，所述工作台用于保持抛光垫；

承载头，所述承载头用于在抛光期间保持基板抵靠所述抛光垫；

第一原位监测系统，所述第一原位监测系统具有第一传感器，所述第一传感器用于在抛光期间监测所述基板并被配置为生成第一信号，所述第一信号取决于导电层的清除以及所述基板的下层介电层的顶表面的暴露；

第二原位监测系统，所述第二原位监测系统具有单独的第二传感器，所述第二传感器用于在抛光期间监测所述基板并被配置为生成第二信号，所述第二信号取决于所述介电层中的沟槽中的导电材料的厚度，所述第二原位监测系统是电磁感应监测系统；以及

控制器，所述控制器被配置为：

接收来自所述第一原位监测系统的所述第一信号，并且基于所述第一信号来确定清除时刻，在所述清除时刻所述导电层被清除；

接收所述第二信号，并且确定在所述确定的清除时刻的所述第二信号的初始值；

将偏移与所述初始值相加以生成阈值；以及

在所述第二信号与所述阈值相交时触发抛光终点。

2.如权利要求1所述的抛光系统，其中所述第二原位监测系统被配置为在设置于所述介电层中的导电回路中感应电流。

3.如权利要求1所述的抛光系统，其中所述第一原位监测系统包括光学监测系统、涡电流监测系统、摩擦监测系统或者电机转矩或电机电流监测系统。

4.如权利要求3所述的抛光系统，其中所述第一原位监测系统包括涡电流监测系统，所述涡电流监测系统被调节为在所述导电层是所述介电层之上的完好的片体时监测所述导电层。

5.如权利要求1所述的抛光系统，其中所述控制器被配置为接收期望的过抛光量作为来自用户的输入。

6.如权利要求5所述的抛光系统，其中所述控制器被配置为将所述阈值VT计算为VT＝V0-kD，其中V0是所述初始值，D是所述期望的过抛光量，且k是常数。

7.一种计算机程序产品，包括非瞬态计算机可读介质，所述非瞬态计算机可读介质具有指令，所述指令用于使处理器：

在基板的抛光期间接收来自第一原位监测系统的第一信号，并基于所述第一信号来确定清除时刻，在所述清除时刻导电层被清除且所述基板的下层介电层的顶表面被暴露；

在所述基板的抛光期间接收来自第二原位监测系统的第二信号，并确定在所述确定的清除时刻的所述第二信号的初始值；

将偏移与所述初始值相加以生成阈值；以及

在所述第二信号与所述阈值相交时触发抛光终点。

8.如权利要求7所述的计算机程序产品，包括用于接收期望的过抛光量作为来自用户的输入的指令。

9.如权利要求8所述的计算机程式产品，包括用于将所述阈值VT计算为VT＝V0-kD的指令，其中V0是所述初始值，D是所述期望的过抛光量，且k是常数。

10.一种控制抛光操作的方法，包括以下步骤：

利用第一原位监测系统在基板的抛光期间监测所述基板，并且基于来自所述第一原位监测系统的第一信号来确定清除时刻，在所述清除时刻导电层被清除且所述基板的下层介电层的顶表面被暴露；

利用第二原位监测系统在所述基板的抛光期间监测所述基板，并且确定在所述确定的清除时刻来自所述第二原位监测系统的第二信号的初始值；

将偏移与所述初始值相加以生成阈值；以及

在所述第二信号与所述阈值相交时触发抛光终点。

11.如权利要求10所述的方法，其中利用所述第二原位监测系统来监测所述基板的步骤包括在设置于所述介电层中的导电回路中感应电流。

12.如权利要求10所述的方法，其中所述第一原位监测系统包括光学监测系统、涡电流监测系统、摩擦监测系统或者电机转矩或电机电流监测系统。