[发明专利]由碳化钨块构成的等离子体设备用部件

权利要求书

1.一种由碳化钨块构成的等离子体设备用部件，其特征在于，

包括：

腔体，形成用于等离子体处理的反应空间；及

边缘环，处于所述腔体的内部并与所述等离子体接触且按压基板的外缘，

所述边缘环由具有等离子体耐蚀性的、0.3mm临界厚度的碳化钨块构成，所述碳化钨具有体积电阻率10³~10^-6Ωㆍcm，

所述体积电阻率与所述基板的体积电阻率类似，所述基板的表面与所述边缘环的表面放置在相同的线上，

向所述基板的所述等离子体的分布脱离所述基板的外缘而扩展至所述边缘环。

2.根据权利要求1所述的由碳化钨块构成的等离子体设备用部件，其特征在于，

所述碳化钨块为基于钨及碳而构成的化合物。

3.根据权利要求1所述的由碳化钨块构成的等离子体设备用部件，其特征在于，

所述碳化钨块为单一相或复合相。

4.根据权利要求3所述的由碳化钨块构成的等离子体设备用部件，其特征在于，

所述单一相包括钨及碳的化学反应计量式相及脱离化学反应计量式组成的非化学反应计量式相。

5.根据权利要求3所述的由碳化钨块构成的等离子体设备用部件，其特征在于，

所述单一相或复合相包括在所述单一相或复合相增加杂质的固溶体。

6.根据权利要求1所述的由碳化钨块构成的等离子体设备用部件，其特征在于，

所述边缘环为烧结的块。

7.根据权利要求1所述的由碳化钨块构成的等离子体设备用部件，其特征在于，

所述边缘环为物理气相沉积或化学气相沉积的块。