[发明专利]纳米多孔半导体材料及其制造有效
申请号: | 201780017477.2 | 申请日: | 2017-03-17 |
公开(公告)号: | CN109072451B | 公开(公告)日: | 2021-08-03 |
发明(设计)人: | 杰弗里·格罗斯曼;布伦丹·德里克·史密斯;亚廷·贾耶什·帕蒂尔;尼古拉·费尔拉利什 | 申请(专利权)人: | 麻省理工学院 |
主分类号: | C23F1/00 | 分类号: | C23F1/00;H01L21/02 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 蔡胜有;顾晋伟 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纳米 多孔 半导体材料 及其 制造 | ||
1.一种纳米多孔半导体材料,包括:
半导体材料;以及
形成在所述纳米多孔半导体材料的表面中的多个孔,所述多个孔的平均孔直径小于10nm,并且其中所述多个孔限定了大于或等于所述半导体材料的表面积的10%的总孔面积,
其中所述多个孔的平均孔间间距小于10nm。
2.根据权利要求1所述的纳米多孔半导体材料,其中所述多个孔中的每个孔包含设置在所述孔内的贵金属纳米颗粒。
3.根据权利要求2所述的纳米多孔半导体材料,其中所述贵金属纳米颗粒为金纳米颗粒。
4.根据权利要求1所述的纳米多孔半导体材料,其中所述多个孔被蚀刻到所述半导体材料的所述表面中。
5.根据权利要求1所述的纳米多孔半导体材料,其中所述多个孔的平均纵横比大于75:1。
6.根据权利要求1所述的纳米多孔半导体材料,其中所述半导体材料为硅。
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