[发明专利]纳米多孔半导体材料及其制造有效

专利信息
申请号: 201780017477.2 申请日: 2017-03-17
公开(公告)号: CN109072451B 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 杰弗里·格罗斯曼;布伦丹·德里克·史密斯;亚廷·贾耶什·帕蒂尔;尼古拉·费尔拉利什 申请(专利权)人: 麻省理工学院
主分类号: C23F1/00 分类号: C23F1/00;H01L21/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 蔡胜有;顾晋伟
地址: 美国马*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 纳米 多孔 半导体材料 及其 制造
【权利要求书】:

1.一种纳米多孔半导体材料,包括:

半导体材料;以及

形成在所述纳米多孔半导体材料的表面中的多个孔,所述多个孔的平均孔直径小于10nm,并且其中所述多个孔限定了大于或等于所述半导体材料的表面积的10%的总孔面积,

其中所述多个孔的平均孔间间距小于10nm。

2.根据权利要求1所述的纳米多孔半导体材料,其中所述多个孔中的每个孔包含设置在所述孔内的贵金属纳米颗粒。

3.根据权利要求2所述的纳米多孔半导体材料,其中所述贵金属纳米颗粒为金纳米颗粒。

4.根据权利要求1所述的纳米多孔半导体材料,其中所述多个孔被蚀刻到所述半导体材料的所述表面中。

5.根据权利要求1所述的纳米多孔半导体材料,其中所述多个孔的平均纵横比大于75:1。

6.根据权利要求1所述的纳米多孔半导体材料,其中所述半导体材料为硅。

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