[实用新型]研磨装置有效

专利信息
申请号: 201721507385.6 申请日: 2017-11-13
公开(公告)号: CN208584372U 公开(公告)日: 2019-03-08
发明(设计)人: 白井明;川合岩男;宫本裕慈 申请(专利权)人: 白井科技股份有限公司
主分类号: B24B37/00 分类号: B24B37/00;B24B55/02;B24B55/06;B24B37/34
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 王加贵
地址: 日本国大阪府东*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 研磨 研磨装置 基板 本实用新型 混合流体 洗涤喷嘴 供给路 中空 盖侧 基材 桌台 进退移动 两端连通 嵌入基板 移动手段 喷嘴 流入端 排出口 吐出口 洗涤水 研磨缘 飞散 碎屑 研削 喷射 吸引 开口 流出 覆盖 配置
【说明书】:

本实用新型的目的为抑制研磨装置中雾或碎屑的飞散。本实用新型的解决手段为一种研磨装置,包括:附有吸引功能的桌台;旋转砥石,用于研磨由桌台前方突出的基板的边缘;盖,覆盖在旋转砥石的外侧,并具有嵌入基板的研磨边缘部分的开口;排出口,位于吸引盖内;移动手段,用以将桌台或盖于左右方向进退移动;基材,支持于盖侧,并配置于基板的研磨边缘上下;左右方向的中空集蓄部,设置于基材内;上侧洗涤喷嘴及下侧洗涤喷嘴,于中空集蓄部两端连通流入端,并使流出吐出口朝向基板的研磨缘;上侧供给路及下侧供给路,用以于上下集蓄部中间供给洗涤水与空气的混合流体;以及喷嘴,支持于盖侧,并于研磨部位喷射研削水与空气的混合流体。

技术领域

本实用新型是关于研磨玻璃基板、陶瓷板等基板的边缘的装置。

背景技术

各种基板的边缘(缘面或缘两面角落的倒角)研磨加工是使用前后排列的附有吸引保持功能的桌台及旋转砥石,在前述桌台上供给载置基板后,一边将上述桌台或旋转砥石之一左右移动,一边在移动时借由旋转砥石研磨桌台上的基板的边缘。

该研磨时由喷嘴对研磨部分喷射冷却水。

当然,冷却水(雾)是回收至覆盖旋转砥石外侧的附有吸引功能的盖(盒)内,且除了冷却水以外,亦回收随着研磨飞散的碎屑(例如参照专利文献1)。

专利文献1:日本专利第4745746号公报。

又,根据专利文献1的研磨方式,是由开口往盒内嵌入工件(基板)的边缘并借由盒内的旋转砥石研磨盒内的工件边缘,由盒内的喷嘴将冷却水喷射于研磨部位,并在喷射冷却水或研磨同时将碎屑吸引至盒内。

若根据上述方式,是在供给管途中至前端为止的范围直列状排列设置喷嘴,并由各喷嘴喷射冷却水,因此由各喷嘴喷射的冷却水的喷射流速会不一致,因该不一致而使各喷嘴无法对研磨部位喷射均一冷却水。

假设若提高对供给管的冷却液的供给压,则泵会大型化并使成本提高,且随着压力提升至必要压以上,冷却液飞散范围也会变大,因此碎屑飞散范围亦变大,而有基板板面的脏污扩大的问题。

尤其,随着压力上升,雾的分散范围亦变大,随着分散范围较大,雾所含碎屑的分散范围亦变大,而所含碎屑对基板板面的附着亦扩大,若在后步骤洗涤并去除碎屑,则会使已于基板板面处理的成膜面产生不良。

实用新型内容

因此,本实用新型的目的是提供一种解决上述各种不良的研磨装置。

为了解决上述技术问题,本实用新型包括以下结构:

附有吸引功能的桌台,在上面保持供给载置的基板;

旋转砥石,在该桌台前方研磨由前述桌台前缘突出的上述基板边缘;

盖,覆盖该旋转砥石外侧,且具有用以从上述桌台侧周壁嵌入上述保持基板的研磨边缘部分的方式设置的开口;

排出口,与该盖的底面连通设置;

移动装置,使上述桌台或盖于左右方向进退移动;

左右方向为长型的两基材,支持于上述盖侧,并配置于上述基板的研磨边缘的上下侧;

左右方向为中空的多个集蓄部,设置于该上下的基材内;

上侧洗涤喷嘴及下侧洗涤喷嘴,在中空集蓄部两端连通流入端,并使流出吐出口朝向上述基板的研磨边缘;

上侧供给路及下侧供给路,设置为在上述集蓄部中间供给洗涤水与空气的混合流体;以及

喷嘴,支持于上述盖侧,并对上述旋转砥石与上述基板的研磨部位喷射研削水与空气的混合流体。

本实用新型相对于现有技术取得了以下技术效果:

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