[实用新型]一种激光诱导气相沉积系统的光路控制装置有效
申请号: | 201720777766.X | 申请日: | 2017-06-29 |
公开(公告)号: | CN207002841U | 公开(公告)日: | 2018-02-13 |
发明(设计)人: | 刘世文;刘志奇 | 申请(专利权)人: | 深圳市森美协尔科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/48 | 分类号: | C23C16/48 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518000 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 激光 诱导 沉积 系统 控制 装置 | ||
1.一种激光诱导气相沉积系统的光路控制装置,包括用于放置待镀物体的载物平台,其特征在于还包括:第一激光器和第二激光器以及沿光路设置的第一反射镜、第二放射镜、透镜、能量传感器、第三反射镜和物镜;
第一激光器用于对产品进行表面微镀膜,第二激光器用于对产品缺陷进行修复,第一激光器与第二激光器呈直角放置;第一激光器射出的激光束与第二激光器射出的激光束交汇处设置第一反射镜,第一反射镜下方设置第二反射镜,第一反射镜将第一激光器射出的激光束或第二激光器射出的激光束反射,到达第二反射镜;所述第一激光器射出的激光束或第二激光器射出的激光束经第二反射镜反射后,到达透镜;所述透镜将所述第一激光器射出的激光束或第二激光器射出的激光束按预设的比例进行反射和透射,得到反射激光束和透射激光束,所述反射激光束射入能量传感器,所述透射激光束到达第三反射镜;所述透射激光束经第三反射镜反射后达到物镜,所述透射激光束经所述物镜聚焦后照射在载物平台上放置的待镀物体表面,进行激光镀膜;所述反射激光束射入能量传感器后,能量传感器根据射入的反射激光束能量大小和预设的比例,计算出所述透射激光束的能量大小。
2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第一激光器与所述第一反射镜之间还设置有:光路开关和扩束放大器,所述光路开关用于控制所述第一激光器射出的激光束光路开启或关闭,所述扩束放大器用于对第一激光器射出的激光束光点进行调制放大。
3.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第二反射镜后方设置有用于发出可见光的第一光源,所述可见光与所述第一激光器射出的激光束或第二激光器射出的激光束混合后经第二反射镜反射后,依次经过第二反射镜、透镜、第三反射镜和物镜后,照射在待镀物件表面。
4.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述物镜还用于放大观察待镀物体表面镀膜的反应过程。
5.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第三反射镜与所述物镜之间还设置有光点形状控制器,所述光点形状控制器用于改变所述透射激光束光点的形状。
6.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述载物平台为透明材料,其底部设置有第二光源,所述第二光源用于发出可见光透射在待镀物体上。
7.如权利要求1至6中任一项所述的装置,其特征在于,预设的比例为反射10%和透射90%。
8.如权利要求1至6中任一项所述的装置,其特征在于,第一激光器为UV激光器,第二激光器为高速脉冲激光器。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的