[实用新型]外延机台取片手臂高度实时监控系统有效
| 申请号: | 201720326036.8 | 申请日: | 2017-03-30 |
| 公开(公告)号: | CN206789526U | 公开(公告)日: | 2017-12-22 |
| 发明(设计)人: | 陈海波 | 申请(专利权)人: | 上海晶盟硅材料有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海脱颖律师事务所31259 | 代理人: | 李强 |
| 地址: | 201707 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 外延 机台 手臂 高度 实时 监控 系统 | ||
1.一种外延机台取片手臂高度实时监控系统,其特征在于,包括:取片手臂,用于取硅片;高度监控装置,用于实时监控取片手臂的高度是否为允许高度范围,如取片手臂的高度超出允许高度范围即报警。
2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述的高度监控装置包括:金属块,设置于取片手臂上;位移传感器,设置于金属块的正上方,采集金属块高度信息;放大器,与传感器相连,将金属块高度信息转为电压模拟信号;外延机台,接收电压模拟信号并通过网络传输至控制终端以判断电压模拟信号是否为允许电压范围。
3.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述的取片手臂包括:旋转手臂和设置于旋转手臂端部的取片手,其中,旋转手臂可旋转地设置,取片手吸取硅片,旋转手臂和取片手的连接处设置金属块。
4.根据权利要求3所述的系统,其特征在于,所述的取片手臂设置于硅片传送腔中。
5.根据权利要求4所述的系统,其特征在于,所述的硅片设置于预抽真空室中,预抽真空室与硅片传送腔连通,位移传感器设置于预抽真空室的顶部。
6.根据权利要求1-5任一项所述的系统,其特征在于,所述的硅片于竖直方向层叠摆放,底部设置升降台。
7.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述的允许电压范围为2.65V~3.98V。
8.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述的位移传感器位于金属块正上方的290~310mm。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





