[发明专利]曝光装置及曝光方法

说明书

提供一种能够以高生产性来生产高质量基板的基板处理装置、器件制造方法以及光罩。具备：光罩支承部件，其在照明区域内以沿着按规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式支承光罩的图案；基板支承部件，其在投影区域内以沿着规定的第二面的方式支承所述基板；以及驱动机构，其以使光罩的图案向规定的扫描曝光方向移动的方式使光罩支承部件旋转，且以使基板向扫描曝光方向移动的方式使基板支承部件移动，光罩支承部件在将第一面的直径设为φ、将第一面在与扫描曝光方向正交的方向上的长度设为L的情况下，满足1.3≤L/φ≤3.8。

本发明申请是国际申请日为2014年3月26日、国际申请号为PCT/JP2014/058590、进入中国国家阶段的国家申请号为201480037519.5、发明名称为“基板处理装置、器件制造方法以及圆筒光罩”的发明申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及将光罩的图案投影至基板，并在该基板上曝光出该图案的基板处理装置、器件制造方法以及用于此的圆筒光罩。

背景技术

有一种制造液晶显示器等显示器件、半导体等各种器件的器件制造系统。器件制造系统具备曝光装置等基板处理装置。专利文献l所记载的基板处理装置将配置在照明区域内的光罩上所形成的图案的像投影至配置在投影区域内的基板等，并在基板上曝光出该图案。用于基板处理装置的光罩有平面状光罩、圆筒状光罩等。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-299918号公报

基板处理装置通过将光罩做成圆筒形状并使光罩旋转，而能够连续在基板上进行曝光。另外，作为基板处理装置，还有一种将基板做成长条的薄片状并将其连续地送入至投影区域下的卷对卷(roll to roll)方式。这样，基板处理装置就能使圆筒形状的光罩旋转，并且，作为基板的搬送方法，通过使用卷对卷方式，能够连续输送基板和光罩双方。

在此，基板处理装置通常被要求高效地在基板上曝光出图案来提高生产性。使用圆筒光罩作为光罩的情况下也是这样。

发明内容

本发明的目的在于提供一种能够以高生产性来生产高质量基板的基板处理装置、器件制造方法以及圆筒光罩。

根据本发明的第一方式，提供一种基板处理装置，其具备：投影光学系统，其将来自配置于照明光的照明区域内的光罩的图案的光束投射至配置有基板的投影区域；光罩支承部件，其在照明区域内以沿着按规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式支承光罩的图案；基板支承部件，其在投影区域内以沿着规定的第二面的方式支承基板；以及驱动机构，其以使光罩的图案向规定的扫描曝光方向移动的方式使光罩支承部件旋转，且以使基板向所述扫描曝光方向移动的方式使基板支承部件移动，光罩支承部件在将第一面的直径设为φ、将第一面在与扫描曝光方向正交的方向上的长度设为L的情况下，满足1.3≤L/φ≤3.8。

根据本发明的第二方式，提供一种器件制造方法，其包括：使用第一方式所述的基板处理装置在所述基板上形成所述光罩的图案；以及向所述基板处理装置供给所述基板。

根据本发明的第三方式，提供一种圆筒光罩，其沿着圆筒状的外周面形成有电子器件用的光罩图案，且能够绕着中心线旋转，该圆筒光罩具有所述外周面的直径为φ、所述外周面在所述中心线的方向上的长度为La的圆筒基材，当将能够形成在所述圆筒基材的外周面上的光罩图案在所述中心线的方向上的最大长度设为L时，在L≤La的范围内，所述直径φ与所述长度L的比率L/φ设定为1.3≤L/φ≤3.8的范围。