[发明专利]一种有机一维全光波长光学纳米线的制备方法在审
申请号: | 201711398442.6 | 申请日: | 2017-12-22 |
公开(公告)号: | CN108101835A | 公开(公告)日: | 2018-06-01 |
发明(设计)人: | 靳旺;孙烨;刘兴;张博颖;李青;乔山林;刘润静 | 申请(专利权)人: | 河北科技大学 |
主分类号: | C07D209/86 | 分类号: | C07D209/86;C07D209/84;C07D409/14;C09K11/06 |
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地址: | 050018 河北省石家庄*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 光学纳米线 全光波 有机分子 制备方法工艺 制备光学材料 光学传感器 光学性质 环境友好 生物分子 不均匀 光损耗 自组装 晶核 可用 光滑 | ||
本发明公开了一种一维全光波长光学纳米线的制备方法。本发明提供的制备方法,是利用有机分子在液相中的自组装过程,有机分子晶核聚集从而得到一维全光波长光学纳米线。本发明所提供的制备方法工艺简单,操作方便,成本低,适用性广,可大量制备且环境友好。利用该方法得到的一维全光波长光学纳米线的表面光滑,直径均匀,具有很好的光学性质性质和发光强度强等优点,解决了以前方法制备的材料表面不光滑、直径不均匀,光损耗大等问题,可用于制备光学材料,如光学传感器或生物分子识。
技术领域
本发明涉及一种一维全光波长光学纳米线的制备方法。
背景技术
随着通信技术的迅速发展,人们对生产光子学期间产生了很大的需求,光子学器件具有电子学器件无法比拟的高速、高带宽和低能耗等优点,在光信息处理和光子学计算中扮演着非常重要的角色。有机材料、聚合物和无机半导体等传统的介质材料,常用来制备光子学器件,但是这些器件存在能带发光的限制,单一发光的一维纳米线限制了信息的传播,因此制备全光发射的一维纳米线的制备至关重要。
有机分子的结构可控性,可裁剪性可以用于制备一维全光纳米线,并且有机分子形成的低维结构,它可以有效的降低光信号在传播过程中光损失,这在未来的集成光路方面具有重要的应用前景。目前的制备的一维纳米线,还没有通过设计结构控制荧光颜色的有机小分子使一维纳米线表现全光波长的荧光。因此,亟待寻找一系列有机分子可以自组装来制备有机一维全光波长光学性质材料。
发明内容
本发明的目的是提供一种一维全光波长光学纳米线的制备方法,选用有机分子来制备,利用有机分子在液相中的自组装过程,有机分子晶核聚集从而得到一维全光波长光学纳米线。
本发明通过如下技术方案实现:
1.一种制备一维全光波长光学纳米线的方法,所述方法包括如下步骤:
1)将有机分子溶解于良溶剂中,超声,得到有机分子的良溶液;
2)将基地置于一个高于反溶剂液面的物体上的烧杯中,避免有机分子的浪溶液与反溶剂直接接触;
3)取上述步骤1)所述的有机分子的良溶液,滴到基地上,并立即用保鲜膜密封烧杯,等待基地上的溶液完全挥发,得到有机一维发光纳米线;
4)通过光学平台对上述步骤3)的材料进行光学性能测试。
2.根据权利要求1所述的制备方法,步骤1)所用的具有光学性质响应的有机分子;其他具有光学性质性质的分子体系均在本专利的保护范围内。
3.根据权利要求1所述的制备方法,步骤3)中,有机分子在静置自组装过程中形成直径为微米尺度的纳米材料。
4.根据权利要求1的制备方法,其特征在于,所述良溶剂和反溶剂剂;优选地,所述良溶剂选自丙酮、四氢呋喃、乙腈、二氯甲烷、三氯甲烷等;优选地,所述反剂选自丙酮、四氢呋喃、DMF、环己烷地,所述有机分子摩尔浓度为0.001-50毫摩尔每升。
5.根据权利要求1的制备方法,其特征在于,步骤1)中,超声时间不大于5分钟;有机分子在烧杯中,自组装形成直径为纳米或微米尺度的单晶一维结构。
6.根据权利要求1的制备方法,其特征在于,步骤3)中,所用基片为各种常用的基片,如玻璃基片、石英基片、硅基片或导电玻璃基片。
7.权利要求1的方法制备获得的有机低维光学性质材料。
本发明涉及的构筑方法具有以下积极有益的效果:
1.填补了系列有机小分子的制备一维全光波长光学纳米线的空白;
2.提供了一种制备一维全光波长光学纳米线的方法,该方法成本低廉,方法简单,对环境友好,可以大量制备;
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