专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种双光学性质智能材料及其制备方法以及应用-CN201810585952.2有效
  • 何乐;李海;李超然 - 苏州大学
  • 2018-06-08 - 2020-11-10 - H01F1/01
  • 本发明提供了一种双光学性质智能材料及其制备方法以及应用,本发明受静电势的最小化所驱动,这些磁性纳米颗粒组装成晶体胶体阵列(CCAs),纳米材料悬浮液使磁响应液晶和光子晶体的结合在一个系统中,表现出各向异性的光学性质,光子能带和双折射的性质取决于纳米颗粒的取向。动态调节纳米棒CCAs的光学特性是通过应用外部磁场来控制纳米棒的取向。结果表明,本发明提供的双光学性质智能材料可以用低至50高斯的磁场调控其光学性质。本发明提供的双光学性质智能材料可用一种刺激调节其双重光学性质的特性将打开智能光学材料在不同领域的新应用。
  • 一种光学性质智能材料及其制备方法以及应用
  • [发明专利]记录数据的方法、设备、光学数据存储系统和记录介质-CN201380081891.1有效
  • 顾敏;李向平;曹耀宇 - 斯威本科技大学
  • 2013-11-28 - 2019-07-09 - G11B7/24044
  • 记录数据的方法、设备、光学数据存储系统和记录介质。该记录介质包括在存在具有第一特性的光学辐射时诱导介质的性质变化的光学活性材料,性质变化由具有第二特性的光学辐射抑制。在记录期间,记录介质的区域用具有第一特性的第一束光学辐射照射,该束在所照射区域的中心部分内具有引起记录介质的性质光学诱导变化的足够强度和足够持续时间。同时,用具有第二特性的第二束光学辐射照射记录介质的该区域,第二束在所照射区域的中心部分内具有局部强度最小值,并在所照射区域的邻近中心部分的至少一部分中具有足以抑制记录介质的性质光学诱导变化的局部强度最大值类似方法用于获取,然而降低第一束的强度以防止记录介质内的材料性质的变化。
  • 光学数据存储方法系统
  • [发明专利]一种薄膜性质参数的量测方法及装置-CN202210944179.0在审
  • 郭鑫;朱珠 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2022-08-05 - 2022-11-04 - G01N21/25
  • 本公开公开了一种薄膜性质参数的量测方法及装置,用以提高半导体产品中光学膜层的薄膜性质参数的量测效率和准确性。本公开提供的薄膜性质参数的量测方法,包括:获取半导体产品在前层薄膜性质参数量测站点的量测结果,所述量测结果包括:针对所述半导体产品处于所述前层薄膜性质参数量测站点时,所具有的光学膜层进行薄膜性质参数量测所生成的量测结果;在本层薄膜性质参数量测站点,将所述前层薄膜的所述量测结果保持不变,针对新增的本层光学膜层进行薄膜性质参数的量测。
  • 一种薄膜性质参数方法装置

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