[发明专利]一种有机一维全光波长光学纳米线的制备方法

权利要求书

1.一种制备一维全光波长光学纳米线的方法，所述方法包括如下步骤：

1）将有机分子溶解于良溶剂中，超声，得到有机分子的良溶液；

2）将基地置于一个高于反溶剂液面的物体上的烧杯中，避免有机分子的浪溶液与反溶剂直接接触;

3）取上述步骤1）所述的有机分子的良溶液，滴到基地上，并立即用保鲜膜密封烧杯，等待基地上的溶液完全挥发，得到有机一维发光纳米线;

4）通过光学平台对上述步骤3）的材料进行光学性能测试。

2.根据权利要求1所述的制备方法，步骤1）所用的具有光学性质响应的有机分子;其他具有光学性质的分子体系均在本专利的保护范围内。

3.根据权利要求1所述的制备方法，步骤3）中，有机分子在静置自组装过程中形成直径为微米尺度的纳米材料。

4.根据权利要求1的制备方法，其特征在于，所述良溶剂和反溶剂剂;优选地，所述良溶剂选自丙酮、四氢呋喃、乙腈、二氯甲烷、三氯甲烷等;优选地，所述反剂选自丙酮、四氢呋喃、DMF、环己烷地，所述有机分子摩尔浓度为0.001-50毫摩尔每升。

5.根据权利要求1的制备方法，其特征在于，步骤1）中，超声时间不大于5分钟；有机分子在烧杯中，自组装形成直径为纳米或微米尺度的单晶一维结构。

6.根据权利要求1的制备方法，其特征在于，步骤3）中，所用基片为各种常用的基片，如玻璃基片、石英基片、硅基片或导电玻璃基片。

7.权利要求1的方法制备获得的有机低维光学性质材料。