[发明专利]采用立方图纹理的图形处理

说明书

本发明提供了一种确定用于纹理化立方图的细节级别的方法和设备。当像素分别对应于立方图的不同面时，所述方法和设备用于转换表示立方图上的对象的边界点的像素坐标。通过使用转换后的坐标，可计算边界像素之间的距离。基于所计算的距离，可确定用于纹理化像素的立方图的细节级别。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2016年12月20日提交至韩国知识产权局的韩国专利申请No.10-2016-0174769的优先权，该申请全部内容以引用方式并入本文中。

技术领域

本公开总体上涉及图形处理，更具体地涉及一种包括确定用于纹理化立方图的细节级别(LOD)的图形处理。

背景技术

纹理化或“纹理映射”用于在三维(3D)图形系统中获得更真实的图像。在图形处理语义中，“纹理”通常指2D图像。利用纹理化，将二维(2D)纹理图像定义在3D对象的表面上，从而将纹理应用于3D对象的表面上。纹素(texel)(也被称为纹理元素)是纹理图的基本单元。纹理代表纹素的阵列，类似于由像素的阵列在屏幕空间表示的图像。

当在3D图形流水线处理中将3D空间中的对象表面映射到2D屏幕空间的像素时，计算每一个具有对应于对象表面的纹理坐标的纹素。因此可执行在像素和纹素之间的纹理映射。

立方映射是指将3D环境的图像映射到设置在该环境内的立方图(虚拟立方体)上的方法。假定在3D空间中的视点处于立方体中心，并且通过虚拟观察者从该视点观看周围的环境。将3D环境的图像映射到六个立方体面中的每一个，以产生具有立方体展开的外观的“天空盒(skybox)”，其中六个立方体面图像在各自的方格中可见。

发明内容

提供一种方法和设备，用于确定用于纹理化立方图的细节级别(LOD)。

其他方面将在下面的描述中部分地阐述，并且部分地将通过描述显而易见，或可通过实践所提出的实施例来习得。

根据实施例，一种确定用于纹理化立方图的细节级别(LOD)的方法包括确定表示立方图上的对象的边界点的像素的坐标。当所述像素中至少第一像素和第二像素分别对应于所述立方图的不同面时，转换所述像素中的至少一个像素的坐标。可通过使用转换后的坐标计算所述立方图上所述像素之间的距离。基于所计算的距离，可确定用于纹理化像素的立方图的LOD。

转换步骤可包括基于对应于所述像素中的参考像素的面的原点和坐标轴转换所述像素中的另一像素的坐标。

转换步骤可包括基于坐标转换表转换像素的坐标，坐标转换表包括关于像素的坐标所要求的转换操作的信息。

可基于距离计算像素的导数，并且LOD可基于所述导数。

立方图可以是包括具有归一化尺寸的六个正方形面的立方纹理。

转换步骤可包括基于屏幕空间中所述像素的方向向量确定至少所述第一像素和所述第二像素是否分别对应于立方图的不同面。

根据另一实施例的一方面，一种确定用于纹理化立方图的细节级别(LOD)的设备包括：存储器，其存储计算机可执行指令；以及处理器，其通过执行计算机可执行指令确定相邻像素在立方图上的坐标，当像素分别对应于立方图的不同面时，转换像素中的至少一个像素的坐标，通过使用转换后的坐标计算像素在立方图上的导数，并且基于所计算的导数，确定用于纹理化像素上的立方图的LOD。

根据另一实施例的一方面，提供一种其上记录有程序的非暂时性计算机可读记录介质，所述程序用于实现确定用于纹理化立方图的LOD的方法。