[发明专利]显示面板及其制造方法

权利要求书

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：

薄膜晶体管阵列基板，所述薄膜晶体管阵列基板包括薄膜晶体管开关阵列和阳极阵列，所述薄膜晶体管开关阵列中的薄膜晶体管开关与所述阳极阵列中的阳极连接；

有机发光功能层；

像素界定层，所述像素界定层包括至少两像素界定构件，所述像素界定构件设置于所述有机发光功能层中与所述显示面板的像素单元对应的部分的至少一侧；

阴极层，所述阴极层具有预定透光率，所述阴极层覆盖于所述有机发光功能层和所述像素界定层上，所述阴极层与所述显示面板的开口区对应的部分的厚度小于所述阴极层与所述显示面板的非开口区对应的部分的厚度；

透明封装层，所述透明封装层覆盖于所述导电金属膜层和所述导电金属构件层上；

其中，所述显示面板用于在所述透明封装层的外表面上输出显示图像。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阴极层包括导电金属膜层和导电金属构件层，所述导电金属膜层覆盖于所述有机发光功能层和所述像素界定层上，所述导电金属构件层设置于所述导电金属膜层上，所述导电金属构件层包括至少两导电金属构件，所述导电金属构件设置于所述导电金属膜层上与所述非开口区对应的位置处。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述导电金属膜层具有第一厚度，所述导电金属构件在垂直于所述导电金属膜层所对应的平面的方向上具有第二厚度，所述第一厚度小于所述第二厚度。

4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述导电金属构件所对应的金属材料的阻抗低于预定值。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述导电金属膜层所对应的金属材料为银、铜、铝，所述导电金属构件所对应的金属材料为钼、钛。

6.一种如权利要求1所述的显示面板的制造方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

A、在所述薄膜晶体管阵列基板上设置像素界定层和有机发光功能层；

B、在所述有机发光功能层和所述像素界定层上设置所述阴极层；

C、在所述导电金属膜层和所述导电金属构件层上设置所述透明封装层。

7.根据权利要求6所述的显示面板的制造方法，其特征在于，所述阴极层包括导电金属膜层和导电金属构件层，所述导电金属膜层覆盖于所述有机发光功能层和所述像素界定层上，所述导电金属构件层设置于所述导电金属膜层上，所述导电金属构件层包括至少两导电金属构件，所述导电金属构件设置于所述导电金属膜层上与所述非开口区对应的位置处。

8.根据权利要求7所述的显示面板的制造方法，其特征在于，所述步骤B包括：

b1、在所述有机发光功能层和所述像素界定层上依次设置具有第一厚度的第一导电金属层和具有第二厚度的第二导电金属层，其中，所述第一厚度小于所述第二厚度；

b2、在所述第二导电金属层上设置光阻层；

b3、对所述光阻层实施曝光制程；

b4、对所述第二导电金属层中没有被所述光阻层遮挡的部分进行蚀刻；

b5、剥离所述第二导电金属层上附着的所述光阻层。

9.根据权利要求8所述的显示面板的制造方法，其特征在于，所述第二导电金属层所对应的金属材料与所述第一导电金属层所对应的金属材料的蚀刻选择比大于1000。

10.根据权利要求6至9中任意一项所述的显示面板的制造方法，其特征在于，所述导电金属构件所对应的金属材料的阻抗低于预定值。