[发明专利]成膜装置

权利要求书

1.一种成膜装置，其具备：

成膜室，可收容基板并且具有头部和主体部；

气体供给部，设置在所述成膜室的上部，具有向所述基板的成膜面上供给气体的多个喷嘴；

加热器，对所述基板进行加热，包括设置在所述成膜室的侧面并且从所述基板的上部进行加热的上部加热器、以及设置在所述基板的下方并且从所述基板的下方进行加热的下部加热器；以及

第一保护罩，以覆盖所述气体供给部的下部表面的方式设置在所述多个喷嘴的下方，并具有多个开口部，

所述成膜室具有设置在所述第一保护罩的下方并且抑制所述气体的温度上升的温度上升抑制区域，所述温度上升抑制区域是所述成膜室的所述头部的内部，

所述多个喷嘴经由所述多个开口部向所述温度上升抑制区域导入所述气体，

位于所述温度上升抑制区域周围的所述成膜室的第一侧壁部的内径小于位于该第一侧壁部的下方的所述成膜室的第二侧壁部的内径，

所述上部加热器设置在所述第一侧壁部与所述第二侧壁部之间的台阶部的下方，从而不直接对所述温度上升抑制区域进行加热，

在所述成膜室的所述主体部中，在所述台阶部的下方设置有覆盖所述上部加热器并抑制材料膜在所述上部加热器上成膜的衬套。

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

进一步具备第二保护罩，所述第二保护罩覆盖位于所述温度上升抑制区域周围的所述成膜室的第一侧壁部。

3.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

进一步具备第三保护罩，所述第三保护罩覆盖所述台阶部。

4.根据权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，

进一步具备第三保护罩，所述第三保护罩覆盖所述台阶部。

5.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

所述第一保护罩至第三保护罩分别具有向所述成膜室内露出的第一面和与所覆盖的部分相对置的第二面，

所述第一保护罩至第三保护罩中的任意一个在所述第二面上具有与所述所覆盖的部分相嵌合的凹凸形状。

6.根据权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，

所述第一保护罩至第三保护罩分别具有向所述成膜室内露出的第一面和与所覆盖的部分相对置的第二面，

所述第一保护罩至第三保护罩中的任意一个在所述第二面上具有与所述所覆盖的部分相嵌合的凹凸形状。

7.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，

所述第一保护罩至第三保护罩分别具有向所述成膜室内露出的第一面和与所覆盖的部分相对置的第二面，

所述第一保护罩至第三保护罩中的任意一个在所述第二面上具有与所述所覆盖的部分相嵌合的凹凸形状。

8.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

所述第一保护罩具有隔板，所述隔板在所述成膜室内向所述气体的供给方向延伸。

9.根据权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，

所述第一保护罩具有隔板，所述隔板在所述成膜室内向所述气体的供给方向延伸。

10.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，

所述第一保护罩具有隔板，所述隔板在所述成膜室内向所述气体的供给方向延伸。