[发明专利]一种阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤指一种阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置。

背景技术

随着显示技术的不断发展，显示屏或触摸屏已经广泛应用于人们的生活中，其中，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)具有体积小、功耗低、无辐射等特点，在市场中占据重要地位。有机电致发光器件(Organic Light-Emitting Diode，OLED)具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，也已经被广泛应用于市场中。

为了实现显示功能，在显示面板上分布着多种信号线，如栅线、数据线等，并且为了增加信号线的传输能力，避免静电荷对信号传输的影响，一般在信号线的末端设置静电防护电路，用于释放信号线上的静电荷；然而，由于现有的静电防护电路释放静电荷的作用有限，使得信号线上积累的静电荷不能迅速地被释放掉，从而容易引起显示面板的损坏。

基于此，如何快速地将信号线上积累的静电荷释放掉，在保证显示面板不被损坏的同时，实现信号传输，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明实施例提供了一种阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置，用以解决现有技术中存在的如何快速地将信号线上积累的静电荷释放掉，在保证显示面板不被损坏的同时，实现信号传输的问题。

本发明实施例提供了一种阵列基板，包括：

显示区域和围绕所述显示区域的非显示区域；

第一信号线；

位于所述非显示区域的静电防护电路，所述静电防护电路包括：至少一个第一薄膜晶体管和至少一个第二薄膜晶体管，所述第一薄膜晶体管和所述第二薄膜晶体管分别与所述第一信号线电连接，其中，所述第一薄膜晶体管和所述第二薄膜晶体管不同时导通；

所述第一薄膜晶体管包括第一有源层，所述第一有源层的材料包括多晶硅，所述第二薄膜晶体管包括第二有源层，所述第二有源层的材料包括多晶硅；

位于所述显示区域的多个第三薄膜晶体管，所述第三薄膜晶体管包括第三有源层，所述第三有源层的材料包括非晶硅。

另一方面，本发明实施例还提供了一种显示面板，包括如本发明实施例提供的上述阵列基板。

另一方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括如本发明实施例提供的上述显示面板。

另一方面，本发明实施例还提供了一种如本发明实施例提供的上述阵列基板的制作方法，所述制作方法包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上形成非晶硅半导体层；

在所述非显示区域内，对所述非晶硅半导体层进行图案化和晶化以形成所述第一有源层和所述第二有源层；

在所述显示区域内，对所述非晶硅半导体层进行图案化以形成第三有源层；

在所述衬底基板上形成所述第一信号线。

本发明有益效果如下：

本发明实施例提供的一种阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置，通过对静电防护电路中的第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管的设置，使得第一薄膜晶体管中的第一有源层，与第二薄膜晶体管中的第二有源层的材料均包括多晶硅，因此，提高了第一有源层和第二有源层的电子迁移率，进而提高了第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管的开关特性，使得信号线上的静电荷可以迅速地被释放掉，保证信号正常传输的同时，降低了信号传输的延迟现象，从而有效提高了显示面板的效果。

附图说明

图1至图3分别为本发明实施例中提供的阵列基板的结构示意图；

图4至图7分别为第一有源层和第二有源层的外边缘形状的示意图；

图8为本发明实施例中提供的底栅型薄膜晶体管的结构示意图；

图9为本发明实施例中提供的顶栅型薄膜晶体管的结构示意图；

图10至图12分别为本发明实施例中提供的静电防护电路的结构示意图；

图13为本发明实施例中提供的阵列基板的制作方法的流程图；

图14a、图14b分别为本发明实施例中提供的阵列基板在不同制作步骤时的结构示意图；

图15为本发明实施例中提供的激光退火工艺的结构示意图；

图16为本发明实施例中提供的激光退火工艺中采用的掩膜版的俯视图；

图17为图16中CD处的截面示意图；

图18为本发明实施例中提供的各微透镜工作过程的示意图；

图19为本发明实施例中提供的显示面板的结构示意图；