[发明专利]一种金属基聚四氟乙烯玻璃布覆铜箔板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710970463.4 申请日: 2017-10-18
公开(公告)号: CN109677036A 公开(公告)日: 2019-04-26
发明(设计)人: 朱德明;王刚;沈振春 申请(专利权)人: 泰州市旺灵绝缘材料厂
主分类号: B32B9/00 分类号: B32B9/00;B32B9/04;B32B15/04;B32B15/20;B32B37/04;B32B37/06;B32B37/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 225321 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 绝缘介质层 制备 聚四氟乙烯 玻璃布覆 金属基 铜箔板 铜箔层 铝层 聚四氟乙烯分散乳液 表面绝缘电阻 表面预处理 半固化片 覆铜箔板 介电常数 介质损耗 体积电阻 微带天线 一致性好 玻璃布 抗辐射 抗老化 耐高温 吸水率 质量比 热压 水冷 排版 调制 微波 制造
【说明书】:

发明公开了一种金属基聚四氟乙烯玻璃布覆铜箔板及其制备方法,所述覆铜箔板包括铜箔层、绝缘介质层、铝层,所述绝缘介质层一侧覆有铜箔层,另一层覆有铝层;所述铜箔层、铝层与所述绝缘介质层的质量比为10%‑25%:10%‑25%:55%‑80%。其制备方法包括以下步骤:1)玻璃布表面预处理;2)调制聚四氟乙烯分散乳液;3)制绝缘介质层(半固化片);4)排版、热压、水冷。本发明制备的金属基聚四氟乙烯玻璃布覆铜箔板介电常数稳定、精确且一致性好,具备介质损耗低、表面绝缘电阻和体积电阻值大等特性,具有耐高温,吸水率低,抗老化,抗辐射等优点,是制造微波原器件和微带天线理想的材料。

技术领域

本发明涉及电子信息技术产品制备领域,尤其涉及一种金属基聚四氟乙烯玻璃布覆铜箔板及其制备方法。

背景技术

随着电子通信产业的迅速发展,原军事用途的高频通信部份频段让给民用,在远距离通信、导航、医疗、运输、交通、仓储领域的广泛应用,使民用高频通信大大发展,卫星通信、微波通信、光纤通信、汽车定位以及超高频播放节目,都在向高频化方向发展,电子信息产品高频化、高速化,对印制板高频特性提出了更高的要求。

由于聚四氟乙烯具有优良的电气性能,耐化学腐蚀,耐热,使用温度范围广,吸水性低,高频率范围介电常数、介质损耗变化少,非常适用于作为高速数字化和高频的基板材料,尤其是地面微波视讯、卫星通信、移动手机、军工雷达、航天航空、导弹导航等领域的广泛需求应用。但由于聚氟乙烯树脂的热膨胀系数大,质地柔软,产品抗弯强度小,机械性能差,限制了其在印刷电路板行业的应用。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术中存在的问题,提供一种金属基聚四氟乙烯玻璃布覆铜箔板及其制备方法。

本发明的技术方案是:

一种金属基聚四氟乙烯玻璃布覆铜箔板,包括铜箔层、绝缘介质层、铝层,绝缘介质层一侧覆有铜箔层,另一层覆有铝层;铜箔层、铝层经真空高温液压机加温、加压分别复合于绝缘介质层上下两侧,其中,铜箔层、铝层与绝缘介质层的质量比为10%-25%:10%-25%:55%-80%。

一种金属基聚四氟乙烯玻璃布覆铜箔板的制备方法,包括以下步骤:

1)对云母玻璃布使用高温炉进行表面进行热处理;

热处理参数如下:

温度:190-260℃;预处理时间:18-35分钟;车速控制:0.5-0.7米/分钟;

2)调制聚四氟乙烯分散乳液;

聚四氟乙烯分散乳液组成成分按质量配比如下:聚四氟乙烯树脂:65-120份;间苯二胺:12-25份;沉降剂20-50份,润滑剂2-20份;

其中,润滑剂组成为甲基咪唑:1-3份;硅烷偶联剂:0.15-3份;三丙二醇单甲醚:6-19份;沉降剂组成为丙酮:15-30份;

聚四氟乙烯分散乳液调配:

A.按配比将润滑剂依次加入到反应釜中,开启搅拌器,温度40-75℃,转速1000-1800转/分钟,持续搅拌15分钟,升温至120-140℃,并继续搅拌反应25-40分钟,制得预聚体A组份;

B.在搅拌槽内按配方量依次加入聚四氟乙烯树脂、间苯二胺,添加完毕后,在130-150℃下预聚20-40分钟,倒出冷却制得B组份;

C.将A组份和B组份均匀混合,并加入沉降剂,倒入搅拌槽内,并持续保持1000-1800转/分钟的转速搅拌4-6小时,聚四氟乙烯分散乳液调配完成;

3)制绝缘介质层(半固化片);

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于泰州市旺灵绝缘材料厂,未经泰州市旺灵绝缘材料厂许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710970463.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top