[发明专利]一种柔性阵列基板及制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201710840811.6 申请日: 2017-09-15
公开(公告)号: CN107634086B 公开(公告)日: 2020-03-03
发明(设计)人: 黄鹏;杨恕权;王松;王研鑫 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L21/77
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 柔性 阵列 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种柔性阵列基板,包括显示区和走线区,其特征在于,所述走线区包括与所述显示区相邻的弯折区;

所述弯折区中包括设置于衬底基板上的信号线以及保护层,所述保护层位于所述信号线背离所述衬底基板的一侧;

其中,所述保护层在所述衬底基板上的正投影与所述信号线在所述衬底基板上的正投影具有重叠区域,且所述保护层的杨氏模量大于或等于所述信号线的杨氏模量,保证在所述弯折区沿衬底基板背离信号线和保护层的方向进行弯折时,降低所述信号线因局部应力集中导致的信号线层发生断裂的几率;

所述保护层与所述信号线之间设置有绝缘层;

所述信号线为多条连续金属走线,所述保护层覆盖所述多条连续金属走线。

2.根据权利要求1所述的柔性阵列基板,其特征在于,所述保护层包括与所述信号线延伸方向一致的保护线。

3.根据权利要求2所述的柔性阵列基板,其特征在于,

所述保护线沿宽度方向上的边界在所述衬底基板上的正投影落入所述信号线在所述衬底基板上的正投影中。

4.根据权利要求2所述的柔性阵列基板,其特征在于,所述信号线包括位于不同层的第一信号线和第二信号线,且所述第一信号线位于所述第二信号线靠近所述衬底基板的一侧。

5.根据权利要求4所述的柔性阵列基板,其特征在于,

一个所述保护线沿宽度方向上的两个边界在所述衬底基板上的正投影落入一个所述第一信号线在所述衬底基板上的正投影中,和/或,一个所述保护线沿宽度方向上的两个边界在所述衬底基板上的正投影分别落入相邻的两个所述第一信号线在所述衬底基板上的正投影中,和/或,相邻的两个所述保护线沿宽度方向上的两个外边界在所述衬底基板上的正投影落入一个所述第一信号线在所述衬底基板上的正投影中;

和/或,一个所述保护线沿宽度方向上的两个边界在所述衬底基板上的正投影落入一个所述第二信号线在所述衬底基板上的正投影中,和/或,一个所述保护线沿宽度方向上的两个边界在所述衬底基板上的正投影分别落入相邻的两个所述第二信号线在所述衬底基板上的正投影中,和/或,相邻的两个所述保护线沿宽度方向上的两个外边界在所述衬底基板上的正投影落入一个所述第二信号线在所述衬底基板上的正投影中。

6.根据权利要求1所述的柔性阵列基板,其特征在于,所述信号线包括镂空图案;和/或,所述保护层包括镂空图案。

7.根据权利要求2所述的柔性阵列基板,其特征在于,所述保护层由导电材料构成。

8.根据权利要求7所述的柔性阵列基板,其特征在于,所述保护线与所述信号线电连接。

9.一种柔性阵列基板的制备方法,所述阵列基板包括显示区和走线区,其特征在于,所述制备方法包括:

在衬底基板的走线区中、与显示区相邻的弯折区形成信号线;

在形成信号线的衬底基板上形成保护层,其中,所述保护层在所述衬底基板上的正投影与所述信号线在所述衬底基板上的正投影具有重叠区域,且所述保护层的杨氏模量大于或等于所述信号线的杨氏模量,保证在所述弯折区沿衬底基板背离信号线和保护层的方向进行弯折时,降低所述信号线因局部应力集中导致的信号线层发生断裂的几率;

所述保护层与所述信号线之间形成绝缘层;

所述信号线为多条连续金属走线,所述保护层覆盖所述多条连续金属走线。

10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述在衬底基板的走线区中、与显示区相邻的弯折区形成信号线包括:

在衬底基板的走线区中、与显示区相邻的弯折区依次形成包括镂空图案的第一信号线、绝缘层以及包括镂空图案的第二信号线。

11.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述在形成信号线的衬底基板上形成保护层包括:

在形成信号线的衬底基板上形成包括镂空图案、且与所述信号线延伸方向一致的保护线。

12.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-8任一项所述的柔性阵列基板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710840811.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top