[发明专利]液晶显示面板及其制作方法

权利要求书

1.一种液晶显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

提供第一基板(10)与第二基板(20)，在所述第一基板(10)上形成第一光阻薄膜(31)，在所述第一光阻薄膜(31)上形成第二光阻薄膜(32)；所述第一光阻薄膜(31)与第二光阻薄膜(32)的光敏特性不同，即所述第一光阻薄膜(31)与第二光阻薄膜(32)具有不同的光反应吸收波长，或者所述第一光阻薄膜(31)与第二光阻薄膜(32)对相同波长光的光反应灵敏度不同；

采用一道掩膜板(60)对所述第一光阻薄膜(31)与第二光阻薄膜(32)进行一次曝光显影制程，形成具有不同图形的第一光阻层(41)与第二光阻层(42)，从而在所述第一基板(10)上形成间隔设置的数个间隙子(40)，所述不同图形是指在上底尺寸、下底尺寸及倾斜角中的至少一种参数上存在差异，所述间隙子(40)包括设于所述第一基板(10)上的第一光阻层(41)与设于所述第一光阻层(41)上的第二光阻层(42)，定义所述间隙子(40)的倾斜角θ为所述第一光阻层(41)的下底边缘与所述第二光阻层(42)的上底边缘之间的连线与第一基板(10)之间的夹角，所述间隙子(40)的结构为以下三种结构之一：

第一种结构为：所述第一光阻层(41)的上底宽度w1小于所述第二光阻层(42)的下底宽度w2，且所述第一光阻层(41)的倾斜角θ1等于所述第二光阻层(42)的倾斜角θ2，此时，所述间隙子(40)的倾斜角θ分别大于所述第一光阻层(41)的倾斜角θ1与所述第二光阻层(42)的倾斜角θ2；

第二种结构为：所述第一光阻层(41)的上底宽度w1小于所述第二光阻层(42)的下底宽度w2，且所述第一光阻层(41)的倾斜角θ1小于所述第二光阻层(42)的倾斜角θ2，此时，所述间隙子(40)的倾斜角θ分别大于所述第一光阻层(41)的倾斜角θ1与所述第二光阻层(42)的倾斜角θ2；

第三种结构为：所述第一光阻层(41)的上底宽度w1大于所述第二光阻层(42)的下底宽度w2，所述第一光阻层(41)的厚度T1小于所述第二光阻层(42)的厚度T2，且所述第一光阻层(41)的倾斜角θ1小于所述第二光阻层(42)的倾斜角θ2，此时，所述间隙子(40)的倾斜角θ大于所述第一光阻层(41)的倾斜角θ1且小于所述第二光阻层(42)的倾斜角θ2；

在所述第二光阻薄膜(32)上形成一层或多层第三光阻薄膜，该一层或多层第三光阻薄膜经过曝光显影后形成一层或多层第三光阻层，所述间隙子由所述第一光阻层(41)、第二光阻层(42)及所述一层或多层第三光阻层构成，所述第一光阻层(41)、第二光阻层(42)及该一层或多层第三光阻层的光敏特性与图形均不相同；

在所述第一基板(10)或第二基板(20)上滴注液晶材料，并将所述第一基板(10)与第二基板(20)对位组合，所述第一基板(10)与第二基板(20)之间的液晶材料形成液晶层(50)，所述数个间隙子(40)的顶端与所述第二基板(20)相接触，制得液晶显示面板。

2.如权利要求1所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述间隙子(40)的倾斜角θ在20°-80°之间。

3.如权利要求1所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一光阻薄膜(31)与第二光阻薄膜(32)具有不同的光反应吸收波长是指所述第一光阻薄膜(31)与第二光阻薄膜(32)含有吸收波长不同的光引发剂；所述第一基板(10)与第二基板(20)分别为彩膜基板与薄膜晶体管阵列基板，或者分别为薄膜晶体管阵列基板与彩膜基板。

4.如权利要求1所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一基板(10)上的数个间隙子(40)的结构包括第一结构、第二结构与第三结构中的一种或多种。