[发明专利]气相沉积炉的均匀供气装置及气相沉积炉

权利要求书

1.气相沉积炉的均匀供气装置，其特征在于：包括至少一条呈T字形的匀气管路（1201），所述匀气管路（1201）上的一组出气孔（1205）的朝向与反应气体的上升方向相反且背向工件；所述匀气管路（1201）包括气体导入管（1202），所述气体导入管（1202）的一端连接有三通过渡接头（1203），所述三通过渡接头（1203）共轴的两个接口分别连接一匀气管（1204），所述匀气管（1204）上设置所述出气孔(1205)；所述匀气管路（1201）为至少两条且平行设置，每条匀气管路（1201）与一个用于放置工件并驱动工件自转的驱动机构对应，每条所述匀气管路（1201）分别连接供气管路（170），所述供气管路（170）至少包括液态反应源供应管路（1701）以及载气供应管路（1702），它们均连接混合装置（1703）且通过所述混合装置（1703）将液态反应源气化并与载气混合，所述混合装置（1703）连接并联的供气支路（1704）及稳压管路（1705），所述供气支路（1704）包括一组并联的且分别与一条匀气管路（1201）连接的供气分路；每个供气分路单独调整与其连接的匀气管路（1201）的反应气体供应量。

2.根据权利要求1所述的气相沉积炉的均匀供气装置，其特征在于：所述载气供应管路（1702）包括并联的氩气供应支路和氢气供应支路。

3.根据权利要求1所述的气相沉积炉的均匀供气装置，其特征在于：所述供气支路（1704）的外周设置有加热带（1706）。

4.根据权利要求1所述的气相沉积炉的均匀供气装置，其特征在于：所述混合装置是液体蒸发器控制系统。

5.根据权利要求1-4任一所述的气相沉积炉的均匀供气装置，其特征在于：所述稳压管路（1705）至少包括管道上依次设置的第一阀们、泄压阀（C5）、第二阀门及抽气泵。

6.气相沉积炉，包括真空室（8），其特征在于：所述真空室（8）包括圆柱形的真空室主体（81）以及位于所述真空室主体（81）的两个圆形开口处的密封门（82），所述真空室主体（81）的外圆周面连接支架（9），还包括权利要求1-5任一所述的均匀供气装置。

7.根据权利要求6所述的气相沉积炉，其特征在于：所述匀气管路（1201）的出气孔（1205）均位于所述真空室（8）内的石墨毡材料的保温箱（11）中。

8.根据权利要求6所述的气相沉积炉，其特征在于：所述真空室（8）内设置有工件驱动组件（10），所述工件驱动组件（10）包括至少一对配合支撑并驱动工件自转，且持续改变与工件接触位置的第一转盘（2）和第二转盘（3），所述第一转盘（2）和第二转盘（3）的对数 与所述匀气管路（1201）相同，且一对第一转盘（2）和第二转盘（3）位于一条匀气管路（1201）上方。

9.根据权利要求8所述的气相沉积炉，其特征在于：所述第一转盘（2）和第二转盘（3）相同且它们中的一个连接驱动其绕其中心轴自转的驱动装置，它们均包括至少一个内凹于它们的圆周面且宽度相同的卡槽（7），所述卡槽（7）包括具有深度差的浅槽区（71）和深槽区（72）。