[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示面板

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种阵列基板及其制作方法、显示面板。

背景技术

现有的电容式触摸屏结构有以GFF(Glass-Film-Film)、OGS (OneGlassSolution)为代表的Out Cell结构、On Cell结构、Hybrid In Cell 结构以及Full In cell结构。其中Full In Cell结构是指将触控功能嵌入到液晶像素中的方法，即在显示屏内部嵌入触摸传感器功能，可以使屏幕更轻薄、透光性更好，势必成为未来触摸屏的主流结构。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种阵列基板及其制作方法、显示面板，能够减少阵列基板的制程，从而减少阵列基板的制作成本。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种阵列基板的制作方法，该阵列基板的制作方法包括：提供一基板；在基板上依次制作TFT功能层、触控信号传输线、第一绝缘层、第一电极、第二绝缘层；其中，第一电极既用作公共电极，也用作触控传感器；在第二绝缘层上采用一道光罩蚀刻形成第一过孔和第二过孔；其中，第一过孔使触控信号传输线和第一电极裸露，第二过孔使TFT功能层中的源极和/或漏极裸露；在第二绝缘层上制作第二电极和金属图案；其中，金属图案通过第一过孔连接触控信号传输线和第一电极，第二电极通过第二过孔连接源极和/或漏极。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供阵列基板，该阵列基板包括依次层叠设置的基板、TFT功能层、触控信号传输线、第一绝缘层、第一电极、第二绝缘层、第二电极和金属图案；其中，第一电极既用作公共电极，也用作触控传感器；其中，第二绝缘层上设置有采用一道光罩蚀刻形成的第一过孔和第二过孔，第一过孔使触控信号传输线和第一电极裸露，第二过孔使TFT功能层中的源极和/或漏极裸露；其中，第二电极和金属图案采用同一金属层制作得到，金属图案通过第一过孔连接触控信号传输线和第一电极，第二电极通过第二过孔连接源极和/或漏极。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供显示面板，包括阵列基板、彩膜基板以及阵列基板和彩膜基板之间的液晶层，其中，该阵列基板是采用如上的制作方法制作得到，或阵列基板是如上的阵列基板。

本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明提供的阵列基板的制作方法包括：提供一基板；在基板上依次制作TFT功能层、触控信号传输线、第一绝缘层、第一电极、第二绝缘层；其中，第一电极既用作公共电极，也用作触控传感器；在第二绝缘层上采用一道光罩蚀刻形成第一过孔和第二过孔；其中，第一过孔使触控信号传输线和第一电极裸露，第二过孔使TFT功能层中的源极和/或漏极裸露；在第二绝缘层上制作第二电极和金属图案；其中，金属图案通过第一过孔连接触控信号传输线和第一电极，第二电极通过第二过孔连接源极和/或漏极。通过上述方式，能够减少阵列基板的制程，从而减少阵列基板的制作成本。

附图说明

图1是本发明提供的阵列基板一实施例的俯视结构示意图

图2是现有技术中公共电极和触摸信号传输线的连接示意图；

图3是本发明提供的阵列基板一实施例的侧视结构示意图；

图4是本发明提供的阵列基板的制作方法一实施例的流程示意图；

图5是本发明提供的阵列基板的制作方法一实施例中步骤S42的结构示意图；

图6是本发明提供的阵列基板的制作方法一实施例中步骤S43的结构示意图；

图7是本发明提供的阵列基板的制作方法一实施例中步骤S44的结构示意图；

图8是本发明提供的阵列基板的制作方法一实施例中TFT功能层的结构示意图；

图9是本发明提供的显示面板一实施例的结构示意图。

具体实施方式

在本发明的实施例中，是采用自电容式Full In Cell触控技术，一般采用图案化的公共电极作为触控传感器，采用Display&Touch分时驱动的方式，以达成减少杂讯信号的处理的目的。

参阅图1，图1是本发明提供的阵列基板一实施例的俯视结构示意图，该阵列基板至少包括阵列分布的多个公共电极11，同时，每个公共电极11也作为阵列基板的触摸传感器。其中，每个公共电极11通过一条触摸信号传输线12连接控制器13。