[发明专利]一种显示基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，包括衬底基板和设置在所述衬底基板上的透明电极层，所述衬底基板包括封装区域和包围所述封装区域的边缘区域，其特征在于，

所述衬底基板的边缘区域设置有凸起结构，所述透明电极层包括位于所述凸起结构上的边缘电极部分和位于所述边缘电极部分靠近所述封装区域一侧的中心电极部分，所述边缘电极部分与所述中心电极部分相互独立。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述凸起结构为倒台型结构，所述倒台型结构靠近所述封装区域的侧面与所述衬底基板之间的夹角大于或等于90度。

3.根据权利要求1或2所述的显示基板，其特征在于，

所述显示基板为彩膜基板，所述透明电极层为公共电极层，所述彩膜基板还包括设置在所述衬底基板和所述中心电极部分之间的色阻层，所述凸起结构为与所述色阻层采用相同色阻材料制成的色阻图形。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述色阻图形为至少两种不同颜色的色阻材料对应形成的子色阻图形叠加形成。

5.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～4任一项所述的显示基板。

6.一种显示基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

提供一衬底基板，所述衬底基板包括封装区域和包围所述封装区域的边缘区域；

在所述衬底基板的边缘区域形成凸起结构；

在所述衬底基板上形成透明电极层，所述透明电极层在所述凸起结构的边缘发生断裂，形成位于所述凸起结构上的边缘电极部分和位于所述边缘电极部分靠近所述封装区域一侧的中心电极部分，所述边缘电极部分与所述中心电极部分相互独立。

7.根据权利要求6所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述在所述衬底基板的边缘形成凸起结构，包括：

在所述衬底基板的边缘区域形成倒台型结构，所述倒台型结构靠近所述封装区域的侧面与所述衬底基板之间的夹角大于或等于90度。

8.根据权利要求6或7所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在所述衬底基板上形成透明电极层之前，所述制备方法还包括：

采用色阻材料在所述衬底基板的显示区域形成色阻层；

所述在所述衬底基板的边缘形成凸起结构，包括：

在形成色阻层的同时，采用色阻材料在所述衬底基板的边缘区域形成色阻图形，由所述色阻图形组成所述凸起结构。

9.根据权利要求8所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述色阻层包括第一色阻单元、第二色阻单元和第三色阻单元，所述制备方法具体包括：

通过同一次构图工艺形成位于所述显示区域的第一色阻单元和位于所述边缘区域的第一子色阻图形；

通过同一次构图工艺形成位于所述显示区域的第二色阻单元和位于所述边缘区域的第二子色阻图形，所述第二子色阻图形位于所述第一子色阻图形上，所述第二子色阻图形与所述第一子色阻图形组成所述凸起结构；或

通过同一次构图工艺形成位于所述显示区域的第一色阻单元和位于所述边缘区域的第一子色阻图形；

通过同一次构图工艺形成位于所述显示区域的第二色阻单元和位于所述边缘区域的第二子色阻图形，所述第二子色阻图形位于所述第一子色阻图形上；

通过同一次构图工艺形成位于所述显示区域的第三色阻单元和位于所述边缘区域的第三子色阻图形，所述第三子色阻图形位于所述第二子色阻图形上，所述第三子色阻图形、所述第二子色阻图形与所述第一子色阻图形组成所述凸起结构。

10.根据权利要求6或7所述的显示基板的制备方法，其特征在于，

所述在所述衬底基板的边缘形成凸起结构，包括：

利用掩膜板，在所述衬底基板的边缘区域形成凸起结构，所述掩膜板对应所述凸起结构的区域设置有多层反射膜。