[发明专利]衬底处理装置、光刻用模板的制造方法及记录程序的记录介质

说明书

本发明的目的在于提供一种能够抑制产生微粒的衬底处理装置、光刻用模板的制造方法、记录程序的记录介质。根据本发明的一个方案，提供如下技术，具有：衬底载置台，其具有支承衬底中的非接触区域的背面的凸部、和与上述凸部一起构成空间的底部，该衬底在中央具有图案形成区域且在外周具有上述非接触区域；处理室，其具有上述衬底载置台；处理气体供给部，其向上述处理室供给处理气体；和热气体供给部，其向上述空间供给热气体。

技术领域

本发明涉及衬底处理装置、光刻用模板(template)的制造方法、记录程序的记录介质。

背景技术

作为对衬底进行处理的衬底处理装置，例如具有在处理室内具有支承衬底的衬底支承部的装置(例如专利文献1)。

在衬底处理装置中，构成为能够处理多种衬底。作为其中之一，具有用作纳米压印(nanoimprint)用光刻模板的玻璃衬底。具有使该模板转印到被转印衬底上的树脂上来形成图案的方法(例如专利文献2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-63033号公报

专利文献2：日本特开2013-235885号公报

发明内容

在纳米压印处理中将光刻用模板的构造转印到被转印衬底上，因此模板构造需要高的准确性。为了制造准确性高的模板，需要例如在模板构造中形成硬掩膜等的衬底处理。在形成硬掩膜时，进行例如加热衬底等的处理。

另外，在纳米压印技术领域中，需要抑制产生微粒(particle)。这是因为，在微粒附着于模板而无法成为所期望的形状的情况下，当使用该模板来进行转印时，被转印衬底侧的成品率会显著降低。

因此，本发明的目的在于提供一种能够抑制产生微粒的技术。

根据本发明的一个方案，提供一种技术，具有：衬底载置台，其具有支承衬底中的非接触区域的背面的凸部、和与上述凸部一起构成空间的底部，该衬底在中央具有图案形成区域且在外周具有上述非接触区域；处理室，其具有上述衬底载置台；处理气体供给部，其向上述处理室供给处理气体；和热气体供给部，其向上述空间供给热气体。发明效果

根据本发明，能够抑制产生微粒。

附图说明

图1是说明在本发明的实施方式中进行处理的衬底的说明图。

图2是说明本发明的实施方式的衬底处理装置的说明图。

图3是说明本发明的实施方式的衬底载置台的说明图。

图4是说明本发明的实施方式的衬底载置台室的说明图。

图5是说明本发明的实施方式的控制器的说明图。

图6是说明本发明的实施方式的衬底处理流程的说明图。

图7是说明本发明的实施方式的衬底载置台的说明图。

图8是说明本发明的实施方式的衬底载置台的说明图。

图9是说明本发明的比较例的衬底载置台的说明图。

附图标记说明

100…衬底处理装置，200…衬底，212…衬底载置台，225…气体加热部，280…控制器

具体实施方式

以下，一边参照附图一边说明本发明的实施方式。

[本发明的第一实施方式]

说明本发明的第一实施方式。