[发明专利]衬底处理装置、光刻用模板的制造方法及记录程序的记录介质

权利要求书

1.一种衬底处理装置，其特征在于，具有：

衬底载置台，其具有支承衬底中的非接触区域的背面的凸部、和与所述凸部一起构成空间的底部，所述衬底在中央具有图案形成区域且在外周具有所述非接触区域；

处理室，其具有所述衬底载置台；

处理气体供给部，其向所述处理室供给处理气体；和

热气体供给部，其向所述空间供给热气体。

2.如权利要求1所述的衬底处理装置，其特征在于，

所述热气体供给部具有设在所述底部上的供给管，在所述供给管上设有对气体进行加热的加热部。

3.如权利要求2所述的衬底处理装置，其特征在于，

所述空间至少设在所述图案形成区域和所述非接触区域各自的背面的下方。

4.如权利要求3所述的衬底处理装置，其特征在于，

在垂直方向上，在所述凸部的上端与所述底部之间设有分散板。

5.如权利要求4所述的衬底处理装置，其特征在于，

所述分散板与所述衬底并行地配置。

6.如权利要求2所述的衬底处理装置，其特征在于，

在垂直方向上，在所述凸部的上端与所述底部之间设有分散板。

7.如权利要求6所述的衬底处理装置，其特征在于，

所述分散板与所述衬底并行地配置。

8.如权利要求1所述的衬底处理装置，其特征在于，

所述空间至少设在所述图案形成区域和所述非接触区域各自的背面的下方。

9.如权利要求8所述的衬底处理装置，其特征在于，

在垂直方向上，在所述凸部的上端与所述底部之间设有分散板。

10.如权利要求9所述的衬底处理装置，其特征在于，

所述分散板与所述衬底并行地配置。

11.如权利要求8所述的衬底处理装置，其特征在于，

在垂直方向上，在所述凸部的上端与所述底部之间设有分散板。

12.如权利要求11所述的衬底处理装置，其特征在于，

所述分散板与所述衬底并行地配置。

13.一种光刻用模板的制造方法，其特征在于，具有：

将在中央具有图案形成区域且在外周具有非接触区域的衬底搬入到处理室中的工序；

在具有支承所述非接触区域的背面的凸部、和与所述凸部一起构成空间的底部的衬底载置台中，将所述非接触区域的背面支承在所述凸部上的工序；和

在向所述空间供给了热气体的状态下向所述处理室供给处理气体来对衬底进行处理的工序。

14.一种记录程序的记录介质，所述程序通过计算机使衬底处理装置执行如下的处理：

将在中央具有图案形成区域且在外周具有非接触区域的衬底搬入到处理室中的处理；

在具有支承所述非接触区域的背面的凸部、和与所述凸部一起构成空间的底部的衬底载置台中，将所述非接触区域的背面支承在所述凸部上的处理；和

在向所述空间供给了热气体的状态下向所述处理室供给处理气体来对衬底进行处理的处理。