[发明专利]发光二极管芯片有效

专利信息
申请号: 201710696041.2 申请日: 2012-08-23
公开(公告)号: CN107516703B 公开(公告)日: 2019-06-14
发明(设计)人: K.佩尔茨尔迈尔;K.格尔克;R.瓦尔特;K.恩格尔;G.魏斯;M.毛特;S.拉梅尔斯贝格尔 申请(专利权)人: 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司
主分类号: H01L33/38 分类号: H01L33/38;H01L33/40;H01L33/42;H01L33/56;H01L33/60;H01L33/62
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张涛
地址: 德国雷*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 发光二极管 芯片
【权利要求书】:

1.发光二极管芯片(1),带有半导体层序列(2),所述半导体层序列具有适于产生电磁辐射(13)的有源层(3),其中

-该发光二极管芯片(1)在前侧上具有辐射出射面(4),

-在与所述辐射出射面(4)相对的背侧上,所述发光二极管芯片(1)至少局部地具有反射膜层(5),该反射膜层包含银,

-在所述反射膜层(5)上布置有保护层(6),

-所述保护层(6)具有透明导电氧化物,

-所述反射膜层(5)在与所述保护层(6)相对的界面上邻接于所述半导体层序列(2),

-第一电连接层(10)被布置在所述保护层(6)的与所述反射膜层(5)相对的侧上,

-所述第一电连接层(10)由多个子层(7,8,9)形成,以及

-所述子层(7,8,9)从所述反射膜层(5)出发包括铂层(7)、金层(8)和钛层(9)。

2.根据权利要求1所述的发光二极管芯片,

其中所述保护层(6)具有ZnO、ZnO:Ga、ZnO:Al、ITO、IZO或IGZO。

3.根据权利要求1或2所述的发光二极管芯片,

其中所述保护层(6)具有在5nm至500nm之间的厚度。

4.根据权利要求3所述的发光二极管芯片,

其中所述保护层(6)具有在10nm和100nm之间的厚度。

5.根据权利要求1或2所述的发光二极管芯片,

其中所述反射膜层(5)和/或所述保护层(6)的侧边缘(16)至少局部地被电绝缘层(14)覆盖。

6.根据权利要求5所述的发光二极管芯片,

其中所述电绝缘层(14)是氧化物层或氮化物层。

7.根据权利要求1或2所述的发光二极管芯片,

其中所述半导体层序列(2)的邻接所述反射膜层(5)的区域是p型半导体区域(2a)。

8.根据权利要求1或2所述的发光二极管芯片,

其中所述发光二极管芯片(1)在从所述反射膜层(5)看与所述半导体层序列(2)相对的侧上与载体(19)连接。

9.根据权利要求1或2所述的发光二极管芯片,

其中所述发光二极管芯片(1)不具有生长衬底。

10.根据权利要求1或2所述的发光二极管芯片,

其中

-所述发光二极管芯片(1)具有第一电连接层(10)和第二电连接层(15),

-所述第一电连接层(10)和所述第二电连接层(15)朝向所述半导体层序列(2)的背侧并且借助电绝缘层(14)相互电绝缘,

-所述第二电连接层(15)的部分区域从所述半导体层序列(2)的背侧穿过所述有源层(3)的至少一个通孔(21a,21b)向前侧方向延伸。

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