[发明专利]阵列基板的制作方法及显示装置的制作方法

说明书

本发明提供一种阵列基板的制作方法及显示装置的制作方法，其包括：在制作隔离层的同时制作隔离柱；具体包括以下步骤：S1，形成隔离层的薄膜，该隔离层的薄膜采用有机材料制作；S2，对隔离层的薄膜进行图案化，以形成隔离层所需图形以及隔离部；S3，对隔离部进行高温处理，使之厚度增大，形成隔离柱。本发明提供的阵列基板的制作方法，其不仅可以缩短生产周期，降低生产成本，而且可以避免TFT因受到大面积的紫外线照射而产生的阈值电压漂移。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体地，涉及一种阵列基板的制作方法及显示装置的制作方法。

背景技术

有机发光二极管(organic light-emitting diode，OLED)显示技术广泛的运用于手机、数码摄像机、DVD机、个人数字助理(PDA)、笔记本电脑、汽车音响和电视等等。目前OLED产品主要通过9个掩膜(mask)步骤来实现。

现有的柔性OLED的结构主要包括基板以及依次设置在该基板上的导向膜层、过渡层、有源层、两个栅极、连接层、源极和漏极、平坦层、电极层、隔离层和隔离柱。其中，上述柔性OLED的制造方法主要通过9个掩膜的光刻工艺，分别为有源层、两个栅极、连接层、源极和漏极、平坦层、电极层、隔离层和隔离柱。

上述柔性OLED的制造方法的生产周期较长，从而造成生产成本的提高。而且，在制作隔离层和隔离柱时，由于需要进行两次光刻工艺，二次曝光的能量过大，导致TFT因受到大面积的紫外线照射而产生的阈值电压漂移(Vth shift)。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种阵列基板的制作方法及显示装置的制作方法，其不仅可以缩短生产周期，降低生产成本，而且可以避免TFT因受到大面积的紫外线照射而产生的阈值电压漂移。

为实现本发明的目的而提供一种阵列基板的制作方法，包括：

在制作隔离层的同时制作隔离柱；

所述在制作隔离层的同时制作隔离柱，包括以下步骤：

S1，形成所述隔离层的薄膜，所述隔离层的薄膜采用有机材料制作；

S2，对所述隔离层的薄膜进行图案化，以形成所述隔离层所需图形以及隔离部；

S3，对所述隔离部进行加热处理，所述加热处理所采用的温度被设置为使所述隔离部的厚度增大，形成所述隔离柱。

其中，在所述步骤S2中，所述隔离层所需图形在所述隔离部所在位置形成凹槽，所述隔离部独立地位于所述凹槽内。

其中，在所述步骤S2中，所述隔离部的长度在4～15μm；所述隔离部的宽度在4～15μm。

其中，在所述步骤S3中，所述加热处理所采用的温度为230℃。

其中，所述加热处理的时间为60min。

其中，所述隔离柱的厚度增大1μm以上。

其中，在所述在制作隔离层的同时制作隔离柱之前，还包括：

提供一基板；

在所述基板上依次形成导向膜层、过渡层、有源层、栅极、连接层、源极和漏极、平坦层和电极层。

其中，所述栅极包括依次形成的第一栅绝缘层、第一栅极、第二栅绝缘层和第二栅极；所述第一栅极和所述第二栅极分别对应不同的像素。

作为另一个技术方案，本发明还提供一种显示装置的制作方法，包括本发明提供的上述阵列基板的制作方法。

其中，所述显示装置为柔性OLED。

本发明具有以下有益效果：