[发明专利]阵列基板的制作方法及显示装置的制作方法

权利要求书

1.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，

在制作隔离层的同时制作隔离柱，包括以下步骤：

S1，形成所述隔离层的薄膜，所述隔离层的薄膜采用有机材料制作；

S2，对所述隔离层的薄膜进行图案化，以形成所述隔离层所需图形以及隔离部；

S3，对所述隔离部进行加热处理，所述加热处理所采用的温度被设置为使所述隔离部的厚度增大，形成所述隔离柱。

2.根据权利要求1所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，在所述步骤S2中，所述隔离层所需图形在所述隔离部所在位置形成凹槽，所述隔离部独立地位于所述凹槽内。

3.根据权利要求1所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，在所述步骤S2中，所述隔离部的长度在4～15μm；所述隔离部的宽度在4～15μm。

4.根据权利要求1所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，在所述步骤S3中，所述加热处理所采用的温度为230℃。

5.根据权利要求4所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述加热处理的时间为60min。

6.根据权利要求1所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述隔离柱的厚度增大1μm以上。

7.根据权利要求1-6任意一项所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，在所述在制作隔离层的同时制作隔离柱之前，还包括：

提供一基板；

在所述基板上依次形成导向膜层、过渡层、有源层、栅极、连接层、源极和漏极、平坦层和电极层。

8.根据权利要求7所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述栅极包括依次形成的第一栅绝缘层、第一栅极、第二栅绝缘层和第二栅极；所述第一栅极和所述第二栅极分别对应不同的像素。

9.一种显示装置的制作方法，其特征在于，包括权利要求1-8任意一项所述的阵列基板的制作方法。

10.根据权利要求9所述的显示装置的制作方法，其特征在于，所述显示装置为柔性OLED。