[发明专利]一种芯片的制造方法在审

专利信息
申请号: 201710575010.1 申请日: 2017-07-14
公开(公告)号: CN107369612A 公开(公告)日: 2017-11-21
发明(设计)人: 周明 申请(专利权)人: 南通明芯微电子有限公司
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02;H01L23/36
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司32243 代理人: 卢霞
地址: 226600 江苏省南通*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 芯片 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及芯片制造技术,具体的说是一种芯片的制造方法。

背景技术

现有技术中的芯片散热效果比较差,温度过高会对电子元件造成损坏,往往因为电子元件损坏而使电子器件经常需要维修,现有的芯片生产工艺很难使生产出的芯片具有很好的散热效果。

发明内容

为了解决上述问题,本发明提供了一种能够生产出散热效果好的芯片的制造方法。

为了达到上述目的,本发明是通过以下技术方案来实现的:

本发明是一种芯片的制造方法,芯片包括基板,在基板下端设置有散热层,散热层与基板一体成型,散热层与基板通过数个连接块相连,在基板上设置有数个金属层,在最上层金属层上设置有钝化层,芯片的加工步骤如下;

1选择晶圆板,对晶圆板进行清洗和干燥;

2对干燥后的晶圆板进行固定,通过激光切割装置进行切割,使晶圆板分为散热层和基板,散热层与基板之间形成数个连接块;

3将步骤2所得的晶圆板浸入纳米散热涂料中静置10-30s,取出烘干;

4将步骤3中所得的晶圆板的基板上表面喷洒丙酮1-2min放入水中清洗,进行干燥;

5对基板上表面进行氧化,并进行数次金属溅镀、涂布光阻、蚀刻和光阻去除,使基板上表面形成至少3层金属层,最上层金属层不做涂布光阻、蚀刻和光阻去除工艺;

6在最上层金属层上涂钝化层;

7进行检测,检测合格后封装。

1、本发明的进一步改进在于:步骤4中干燥的温度为180℃,干燥时间为4-5min。

本发明的进一步改进在于:最上层金属层与最下层金属层比其他金属层厚。

本发明的有益效果是:本发明在芯片上涂有纳米散热涂料使芯片产生的热量快速散去,散热层于基板之间通过连接块连接使芯片整体与空气接触面积增大,增强散热效果。

本发明设计合理,步骤简单,生产出的芯片散热效果好,使用寿命长。

附图说明

图1是本发明结构示意图。

其中:1-散热板,2-基板,3-连接块,4-层金属层,5-钝化层。

具体实施方式

为了加强对本发明的理解,下面将结合附图和实施例对本发明作进一步的详细描述,该实施例仅用于解释本发明,并不对本发明的保护范围构成限定。

如图1所示,本发明是一种芯片的制造方法,芯片包括基板1,在基板1下端设置有散热层2,散热层2与基板1一体成型,散热层2与基板1通过数个连接块3相连,在基板1上设置有数个金属层4,在最上层金属层4上设置有钝化层5,芯片的加工步骤如下;

1选择晶圆板,对晶圆板进行清洗和干燥;

2对干燥后的晶圆板进行固定,通过激光切割装置进行切割,使晶圆板分为散热层和基板,散热层与基板之间形成数个连接块;

3将步骤2所得的晶圆板浸入纳米散热涂料中静置10-30s,取出烘干;

4将步骤3中所得的晶圆板的基板上表面喷洒丙酮1-2min放入水中清洗,进行干燥;

5对基板上表面进行氧化,并进行数次金属溅镀、涂布光阻、蚀刻和光阻去除,使基板上表面形成至少3层金属层,最上层金属层不做涂布光阻、蚀刻和光阻去除工艺;

6在最上层金属层上涂钝化层;

7进行检测,检测合格后封装;步骤4中干燥的温度为180℃,干燥时间为4-5min,最上层金属层4与最下层金属层4比其他金属层4厚。

本发明设计合理,步骤简单,生产出的芯片散热效果好,使用寿命长。

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