[发明专利]一种外延工艺下多电源电压集成电路ESD保护网络在审

专利信息
申请号: 201710546529.7 申请日: 2017-07-06
公开(公告)号: CN107482004A 公开(公告)日: 2017-12-15
发明(设计)人: 吕曼;孙永姝;李东强 申请(专利权)人: 北京时代民芯科技有限公司;北京微电子技术研究所
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 中国航天科技专利中心11009 代理人: 张辉
地址: 100076 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 外延 工艺 电源 电压 集成电路 esd 保护 网络
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种外延工艺下多电源电压集成电路ESD保护网络,属于集成电路设计领域。

背景技术

提高集成电路的高性能和低功耗是集成电路行业追逐的目标,静电放电却是集成电路领域面临的一个严重的可靠性问题,所以规避ESD失效风险,提高ESD效率成为迫在眉睫的事情。外延工艺因能显着提高集成电路性能而广泛应用,但是外延工艺会使集成电路的常规ESD保护结构(GGNMOS)存在失效风险,这对ESD设计是一个新的挑战。同时为了提高电路性能、降低功耗,集成电路的内部电路会使用低电源电压,而输入输出单元需要使用高电源电压,即集成电路往往设计为多电源电压电路。多电源电压的集成电路在ESD测试时,电源分组增加,分组越多,则ESD测试组合将越多,因此在进行ESD保护设计时,要考虑为每一种组合都提供有效的ESD泄放通路,这就需要为不同的电源电压设计合适的ESD器件类型来满足ESD防护要求,还需要为不同电压域之间提供合理的ESD保护结构,确保ESD电流泄放通路,这使得多电源电压集成电路的ESD设计相当有难度。

发明内容

本发明的技术解决问题是:克服现有技术的不足,提供一种外延工艺下多电源电压集成电路ESD保护网络,可以解决外延工艺下常规ESD设计(GGNMOS)保护失效问题,还可以解决多电源电压的集成电路ESD设计复杂难度大问题,有效的实现多电源电压集成电路中的ESD保护。

本发明的技术解决方案是:一种外延工艺下多电源电压集成电路ESD保护网络,包括电源VIO、地VSSIO、电源VCORE、地VSSCORE、二极管DD1、二极管DD2、二极管DD3、第一VIO SCR保护电路、第二VIO SCR保护电路、第三VIO SCR保护电路、VCORE SCR保护电路以及IO PAD;VIO>VCORE

电源VCORE通过VCORE SCR保护电路与地VSSCORE连接;电源VCORE通过二极管DD1与电源VIO连接,其中电源VCORE与二极管DD1的正极连接,二极管DD1的负极与电源VIO连接;

地VSSCORE通过二极管DD2和二极管DD3组成的通路与地VSSIO连接,其中地VSSCORE同时与二极管DD2的正极、二极管DD3的负极连接,二极管DD2的负极、二极管DD3的正极同时与地VSSIO连接;

电源VIO通过第一VIO SCR保护电路与地VSSIO连接;电源VIO通过第二VIO SCR保护电路与IO PAD连接;地VSSIO通过第三VIO SCR保护电路与地VSSIO连接;所述IO PAD与待保护的内核电路连接。

所述第一VIO SCR保护电路包括PNP晶体管Q1、NPN晶体管Q2、NMOS管M1、电阻R1和电阻R2;

PNP晶体管Q1的发射极接电源VIO,PNP晶体管Q1的集电极与NPN晶体管Q2的基极连接,电阻R1跨接在PNP晶体管Q1的发射极和基极之间;

NPN晶体管Q2的发射极接地VSSIO,电阻R2跨接在NPN晶体管Q2的基极和发射极之间;

NMOS管M1的漏端、NPN晶体管Q2的集电极同时与PNP晶体管Q1的基极连接,NMOS管M1的栅端、源端、衬端相连后与地VSSIO连接。

所述NMOS管使用内核NMOS管。

所述VCORE SCR保护电路包括PNP晶体管Q3、NPN晶体管Q4、电阻R3、电阻R4、n个二极管组成的串联电路;

PNP晶体管Q3的发射极接电源VCORE,PNP晶体管Q3的集电极与NPN晶体管Q4的基极连接,电阻R3跨接在PNP晶体管Q3的发射极和基极之间;

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